[实用新型]真空镀膜机腔体冷却装置

说明书

本实用新型涉及真空镀膜机腔体技术领域，具体公开了真空镀膜机腔体冷却装置，包括用于真空镀膜的镀膜腔体、设置于镀膜腔体两侧的密封部件一和密封部件二以及设置在镀膜腔体内腔内侧的冷却部件；所述镀膜腔体的内侧设置有冷却腔，所述冷却腔的内侧填充有可供冷却循环的填充物，且与冷却部件的内侧相连通；本实用新型通过设置的镀膜腔体配合内部的内腔和设置的冷却腔，可通过外接循环设备，比如冷水机的方式，让用以冷却的填充物可以进行循环，且通过设置的冷却部件，与冷却的填充物进行充分的接触，即可实现换热。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机腔体技术领域，具体为一种真空镀膜机腔体冷却装置。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜的机器；一般情况下，在镀膜的时候，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，形成镀膜。

在镀膜的过程中，此时的真空镀膜机腔体内部温度较高，其原因在于使用过程中，镀膜使用的中频设备会产生大量的热，由于镀膜机内部呈密封设置，因此会对镀膜机内部零件造成损伤，影响其使用，基于此需要采用冷却措施对其进行冷却，用以保障镀膜腔体的使用稳定；

因此在专利文献中“一种真空镀膜机腔体冷却装置”，通过半导体制冷片开设制冷，并且由马达转动带动转动扇转动，将冷气吹至工件盘方向，配合弧形过滤板的设置，冷气流经过弧形过滤板的缓冲使得冷气流更加和缓均匀，实现对工件盘上的基片进行冷却。

在这一技术方案中，半导体制冷时同样会散热巨大的热量，而镀膜腔体的内部空间无法较为狭小，所需制冷量较大，而采用半导体制冷的方式，发热量巨大，反而不利于腔体的冷却；基于此，我们提出一种真空镀膜机腔体冷却装置。

上述专利文献为：公布号为：CN216838154U，的中国专利。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供一种真空镀膜机腔体冷却装置，用于解决上述背景技术所提出的问题。

本实用新型的真空镀膜机腔体冷却装置，包括用于真空镀膜的镀膜腔体、设置于镀膜腔体两侧的密封部件一和密封部件二以及设置在镀膜腔体内腔内侧的冷却部件；

所述镀膜腔体的内侧设置有冷却腔，所述冷却腔的内侧填充有可供冷却循环的填充物，且与冷却部件的内侧相连通。

作为本实用新型的进一步改进，所述镀膜腔体的外侧中部设置有支撑部件，所述支撑部件包括两个呈对称设置的延伸支臂和用于支撑的底座，所述支撑部件的本体与镀膜腔体外侧紧密贴合。

作为本实用新型的进一步改进，所述镀膜腔体的两端部均开设有向内的凹槽，且不与冷却腔相连通，所述镀膜腔体的凹槽处设置有密封螺槽，所述密封螺槽与密封部件一和密封部件二相连接。

作为本实用新型的进一步改进，所述密封部件一和密封部件二相对的一端分别设置有螺纹环一和螺纹环二，所述螺纹环一和螺纹环二均与镀膜腔体的凹槽处设置的密封螺槽适配。

作为本实用新型的进一步改进，所述镀膜腔体的两端部位于密封螺槽的外侧设置有呈环形设置的定位孔，且通过定位孔连接有紧固件。

作为本实用新型的进一步改进，所述冷却部件包括冷却板，所述冷却板的中段贯穿镀膜腔体的内腔与冷却腔相连接，所述冷却板的内侧与冷却腔之间形成冷却通道。

作为本实用新型的进一步改进，所述冷却板的表面设置有一根或多根冷却槽，用于镀膜腔体内部的冷却。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：