[实用新型]Mask翻转设备

说明书

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及Mask翻转设备。本实用新型中，Mask水平放置于底部支撑机构上之后，紧抵固定限位组件，利用侧向归正机构对Mask进行侧向归正，通过顶部限位机构对Mask进行竖直方向上的限制，然后转动底部支撑机构至Mask处于竖直状态，以便于取料机械手对Mask进行移走。反之，取料机械手移送竖直状态的Mask至底部支撑机构上之后，转动底部支撑机构至水平状态，处于水平状态的Mask能够被取料机械手水平取走，从而完成对Mask的翻转。通过如此设置能够减轻翻转重量大的Mask的难度，保证翻转时无划痕或损伤，其中侧向归正机构和顶部限位机构能保证Mask位置准确，安全系数高，不易产生翻倒风险。

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及Mask翻转设备。

背景技术

Mask(Mask Reticle，光刻掩模版)清洗机用于OLED(Organic Light-EmittingDiod，有机发光二极管)制程，清洗蒸镀设备内核心部件——Mask。AMOLED(Active-matrixorganic light-emitting diode，主动矩阵有机发光二极体)采用Mask蒸镀方式实现，而Mask精密度极高，极其脆弱，价格也极其昂贵，并且Mask重量达100kg左右，故对于Mask的翻转要求极高，现有技术中对Mask的翻转为半自动翻转，不仅费劲而且容易造成Mask的损伤，并且与Mask清洗机设备对接误差较大，不利于后续取用。

因此亟需Mask翻转设备以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种Mask翻转设备，能够减轻翻转重量大的Mask的难度，保证翻转时无划痕或损伤，位置准确，安全系数高，不易产生翻倒风险。

为达此目的，本实用新型采用了以下方案：

Mask翻转设备，包括：

机架；

底部支撑机构，该底部支撑机构设置于该机架顶面，该底部支撑机构与该机架转动连接，该底部支撑机构用于承载Mask，该底部支撑机构包括两个固定限位组件，两个该固定限位组件设置于同一侧，该固定限位组件用于抵接该Mask；

两个侧向归正机构，两个该侧向归正机构设置于该底部支撑机构上与该固定限位组件相邻的一侧，两个该侧向归正机构连接于该底部支撑机构的同侧，该侧向归正机构被配置为对该Mask进行侧向归正；

两个顶部限位机构，两个该顶部限位机构设置于该底部支撑机构上与该固定限位组件相对的一侧，该顶部限位机构被配置为限制该Mask在竖直方向上的位移。

示例性地，该底部支撑机构还包括支撑板和多个浮动支撑台，多个该浮动支撑台设置于该支撑板上，浮动支撑台与支撑板相对浮动连接，多个该浮动支撑台的高度一致。

示例性地，该浮动支撑台底部与该支撑板螺纹连接。

示例性地，该Mask翻转设备还包括转动机构，该转动机构安装于该机架上，该底部支撑机构通过该转动机构与该机架转动连接。

示例性地，该转动机构包括轴承座、转动轴和第一驱动组件，该轴承座安装于该机架上，该转动轴与该轴承座转动连接，该底部支撑机构与该转动轴固定连接，该第一驱动组件的输出端与该转动轴连接，该第一驱动组件被配置为驱动该转动轴相对该轴承座转动。

示例性地，该第一驱动组件为伺服电机驱动组件。

示例性地，该侧向归正机构包括第一限位块和第二驱动组件，该第二驱动组件设置于该底部支撑机构上，该第一限位块竖直设置，该第一限位块能够与该Mask的侧边抵接，该第二驱动组件的输出端与该第一限位块连接，该第二驱动组件被配置为驱动该第一限位块沿水平方向移动并抵接该Mask的侧边。

示例性地，该第二驱动组件为气缸驱动组件。