[实用新型]一种制备纳米级硅的设备

权利要求书

1.一种制备纳米级硅的设备，包括生产机架(10)，所述生产机架(10)的顶部设置有顶板(20)，且顶板(20)上端面的左侧设置有进料斗(30)，其特征在于：所述生产机架(10)内部的一侧设置有加工架(40)，所述进料斗(30)的底部设置有导料管(50)，且导料管(50)的另一端通过料泵延伸至加工架(40)的内部；

所述加工架(40)内部的右侧设置有五个研磨箱(80)，五个所述研磨箱(80)的内部均设置有研磨组件(90)，所述研磨组件(90)包括第一驱动杆(31)和第二驱动杆(32)，所述第一驱动杆(31)与第二驱动杆(32)靠近的一端之间设置有传动架(33)，且传动架(33)位于研磨箱(80)内部的中部固定设置，所述研磨箱(80)的正面设置有第二伺服电机(34)，且第二伺服电机(34)的输出轴通过联轴器与第一驱动杆(31)的一端连接，所述第二驱动杆(32)的一端与研磨箱(80)内壁的背面转动连接，且第一驱动杆(31)与第二驱动杆(32)的表面均设置有若干个第二搅拌架(35)，所述第一驱动杆(31)的后端延伸至传动架(33)内部的前侧，且第一驱动杆(31)位于传动架(33)内部的一端设置有驱动齿轮(41)，所述传动架(33)的内部设置有三个转动轴(42)，且三个转动轴(42)关于驱动齿轮(41)的中心轴线呈等角度分布设置，三个所述转动轴(42)表面的前侧均设置有第一传动齿轮(43)，且三个第一传动齿轮(43)的表面均与驱动齿轮(41)的表面相啮合，所述第二驱动杆(32)的前端延伸至传动架(33)内部的后侧，且第二驱动杆(32)延伸至传动架(33)内部的一端设置有传动环(44)，所述传动环(44)的前侧开设有内齿环(45)，三个所述转动轴(42)表面的后侧均设置有第二传动齿轮(46)，且三个第二传动齿轮(46)的表面均与内齿环(45)的内壁相啮合。

2.根据权利要求1所述的一种制备纳米级硅的设备，其特征在于：所述进料斗(30)的上端面设置有两个进料管(11)，且两个进料管(11)分别用于微米级硅粉和溶剂的输送，所述进料斗(30)的上端面还设置有第一伺服电机(12)，且第一伺服电机(12)的输出轴延伸至进料斗(30)的内部。

3.根据权利要求2所述的一种制备纳米级硅的设备，其特征在于：所述进料斗(30)的内部设置有转动杆(13)，且转动杆(13)的顶端通过联轴器与第一伺服电机(12)的输出轴一端连接，所述转动杆(13)的表面设置有若干个第一搅拌架(14)。

4.根据权利要求1所述的一种制备纳米级硅的设备，其特征在于：所述进料斗(30)的一侧还设置有清水管，且清水管的内部与进料斗(30)的内部连通。

5.根据权利要求1所述的一种制备纳米级硅的设备，其特征在于：所述加工架(40)内壁的左侧设置有第一导料架(60)，所述第一导料架(60)的内部开设有导料通道(70)，所述第一导料架(60)采用L型设计，且第一导料架(60)的左侧与导料管(50)延伸至加工架(40)内部的一端连接。

6.根据权利要求5所述的一种制备纳米级硅的设备，其特征在于：位于最左侧的所述研磨箱(80)左侧开设有进料口(21)，所述第一导料架(60)的右侧延伸至进料口(21)的内部，且进料口(21)内部的一侧转动设置有第一挡料板(22)。

7.根据权利要求1所述的一种制备纳米级硅的设备，其特征在于：所述研磨箱(80)的底部开设有出料槽(51)，且出料槽(51)的内部设置有第二挡板(52)，所述第二挡板(52)底部的前后侧均设置有微型电缸(53)，且两个微型电缸(53)的驱动端分别与第二挡板(52)底部的前后侧转动连接。

8.根据权利要求7所述的一种制备纳米级硅的设备，其特征在于：所述研磨箱(80)的一侧还设置有第二导料架(54)，所述第二导料架(54)的一侧与出料槽(51)的一侧连接，且第二导料架(54)的另一侧通过料泵与相邻研磨箱(80)的内部连接。