[实用新型]一种高洁净度硅片烘干槽

说明书

本实用新型揭示了一种高洁净度硅片烘干槽，其包括内部形成有空腔的外壳，所述外壳内部设置有一支撑底板，将所述空腔分隔为上下分布的烘干腔与沥水腔；所述烘干腔的前后内壁表面上设置有若干分散管，所述烘干腔的顶部设置有箱盖，所述支撑底板上设置有若干贯通上下的通口，所述外壳的左侧设置有集气腔，所述分散管的一端延伸至所述集气腔内与所述集气腔连通，所述沥水腔的底部设置有输出口。本实用新型能够有效的及时排出多余的水份，保障硅片烘干过程中烘干槽内的控制质量，及时将烘干槽内带有颗粒的气体排出。

【技术领域】

本实用新型属于烘干设备技术领域，特别是涉及一种高洁净度硅片烘干槽。

【背景技术】

硅材料作为重要的半导体材料，在湿法处理后均需要烘干工艺处理，硅片在烘干时对烘干箱内的空气质量要求非常高，且内部空气是经过加热后的热空气，要求烘干箱的壳体具有一定的耐热性能以及保温性能。现有烘干槽体多为PVDF材质或SUS316结合Helar喷涂的方式，制作成本高。

现有技术中专利公开号为CN210952133U公开了一种硅片烘干槽，其经过过滤加热后的气体由烘干槽的底部进入烘干箱内，且在烘干槽内部下方设置有加热器；现有技术中专利公开号为CN215413064U也公开了一种内置热风烘干装置，其也是在烘干槽的内部设置加热器，采用风机进行内部循环，风机设置在烘干槽的底部，然后通过底部的新风管进入到烘干槽内部空间。上述两种方式的加热气体均是由下向上，这种结构会存在一些问题，硅片放置在载具中刚放入烘干槽内时，硅片上的水珠会向下滴落，而该两种烘干槽的槽底是进风管，多余的水珠无法排出，一方面会对烘干槽内部的空气质量造成一定的影响，水珠中的金属颗粒容易被吹到硅片表面上，影响硅片质量；且滴落的水珠若流淌到新风管内或流淌到下面的风机中，容易损坏零件，影响烘干槽的使用寿命。

因此，需要额外设计一款高洁净度硅片烘干槽来解决上述技术问题。

【实用新型内容】

本实用新型的主要目的在于提供一种高洁净度硅片烘干槽，能够有效的及时排出多余的水份，保障硅片烘干过程中烘干槽内的控制质量，及时将烘干槽内带有颗粒的气体排出。

本实用新型通过如下技术方案实现上述目的：一种高洁净度硅片烘干槽，其包括内部形成有空腔的外壳，所述外壳内部设置有一支撑底板，将所述空腔分隔为上下分布的烘干腔与沥水腔；所述烘干腔的前后内壁表面上设置有若干分散管，所述烘干腔的顶部设置有箱盖，所述支撑底板上设置有若干贯通上下的通口，所述外壳的左侧设置有集气腔，所述分散管的一端延伸至所述集气腔内与所述集气腔连通，所述沥水腔的底部设置有输出口。

进一步的，所述外壳的底部设置有与所述输出口连接的且竖直向下的第一管路，所述第一管路的中部水平延伸连接有第二管路，所述第二管路的输出端接入至所述排风单元的输入端。

进一步的，所述第一管路的底部设置有排水管。

进一步的，所述排水管上设置有单向阀。

进一步的，所述沥水腔的底部形成有便于水渍汇聚至所述第一管路中的斜坡底面。

进一步的，所述外壳上还设置有与所述集气腔连通的进风口。

进一步的，所述支撑底板上设置有对硅片载具进行快速定位的定位底座。

进一步的，所述箱盖受一驱动件驱动进行自动开合动作。

进一步的，所述外壳的外围表面上设置有加强筋。

进一步的，所述外壳的内壁表面贴合设置有PVDF或PTFE内衬。