[实用新型]一种高洁净度硅片烘干槽有效

专利信息
申请号: 202222768421.1 申请日: 2022-10-20
公开(公告)号: CN218993858U 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 郑严严;李世磊;梁先东 申请(专利权)人: 昆山晟成光电科技有限公司
主分类号: F26B9/06 分类号: F26B9/06;F26B21/00;F26B25/00;F26B25/18
代理公司: 苏州源禾科达知识产权代理事务所(普通合伙) 32638 代理人: 刘艳春
地址: 215300 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 洁净 硅片 烘干
【权利要求书】:

1.一种高洁净度硅片烘干槽,其包括内部形成有空腔的外壳(1),其特征在于:所述外壳(1)内部设置有一支撑底板(2),将所述空腔分隔为上下分布的烘干腔(3)与沥水腔(4);所述烘干腔(3)的前后内壁表面上设置有若干分散管(5),所述烘干腔(3)的顶部设置有箱盖(6),所述支撑底板(2)上设置有若干贯通上下的通口,所述外壳(1)的左侧设置有集气腔(12),所述分散管(5)的一端延伸至所述集气腔(12)内与所述集气腔(12)连通,所述沥水腔(4)的底部设置有输出口。

2.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽,其特征在于:所述外壳(1)的底部设置有与所述输出口连接的且竖直向下的第一管路(7),所述第一管路(7)的中部水平延伸连接有第二管路(8),所述第二管路(8)的输出端接入至一个排风单元(9)的输入端。

3.如权利要求2所述的高洁净度硅片烘干槽,其特征在于:所述第一管路(7)的底部设置有排水管(10)。

4.如权利要求3所述的高洁净度硅片烘干槽,其特征在于:所述排水管(10)上设置有单向阀(11)。

5.如权利要求2或3所述的高洁净度硅片烘干槽,其特征在于:所述沥水腔(4)的底部形成有便于水渍汇聚至所述第一管路(7)中的斜坡底面。

6.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽,其特征在于:所述外壳(1)上还设置有与所述集气腔(12)连通的进风口(13)。

7.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽,其特征在于:所述支撑底板(2)上设置有对硅片载具进行快速定位的定位底座(14)。

8.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽,其特征在于:所述箱盖(6)受一驱动件(15)驱动进行自动开合动作。

9.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽,其特征在于:所述外壳(1)的外围表面上设置有加强筋(16)。

10.如权利要求1所述的高洁净度硅片烘干槽,其特征在于:所述外壳(1)的内壁表面贴合设置有PVDF或PTFE内衬(17)。

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