[实用新型]溶铜设备和铜箔制备系统

说明书

本申请提供了一种溶铜设备和铜箔制备系统。其中，溶铜设备包括：罐体、承载板、过滤板、喷淋头和进气管，罐体围设形成溶解腔，承载板设于溶解腔内，承载板用于承载金属铜，过滤板设于溶解腔内，且位于承载板的下方，承载板和过滤板之间间隔设置形成清理腔，罐体的侧壁开设有至少一个清理口，清理口连通清理腔，喷淋头设于溶解腔内，且位于承载板的上方，喷淋头用于喷洒溶解液，进气管位于过滤板的下方，进气管用于充入溶解金属铜的反应气体。本申请的技术方案能够使反应气体顺利与回收的铜箔接触，保证化学反应速率，避免溶解化学反应终止。

技术领域

本申请涉及铜箔生产技术领域，特别涉及一种溶铜设备和铜箔制备系统。

背景技术

溶解回收的铜箔过程中，铜箔中可能存在一些杂物，这些杂物难以溶解。在长期进行回收铜箔的溶解过程中，这些难溶杂物会堆积在承载板的表面，对由下向上穿过承载板的反应气体形成封堵。而在溶解回收的铜箔时，氧气是一种参与溶解化学反应的重要气体，承载板的表面一旦被封堵，氧气无法穿过承载板，氧气无法接触到铜箔，这样在溶解铜箔的化学反应中会缺少重要的氧气参与，由此导致铜箔溶解生产工作进展缓慢，化学反应速率下降，严重时会导致化学反应终止。

实用新型内容

本申请的一个目的在于提供一种溶铜设备和铜箔制备系统，能够使反应气体顺利与回收的铜箔接触，保证化学反应速率，避免溶解化学反应终止。

根据本申请的一个方面，本申请提供一种溶铜设备，所述溶铜设备包括：

罐体，所述罐体围设形成溶解腔；

承载板，所述承载板设于所述溶解腔内，所述承载板用于承载金属铜；

过滤板，所述过滤板设于所述溶解腔内，且位于所述承载板的下方，所述承载板和所述过滤板之间间隔设置形成清理腔，所述罐体的侧壁开设有至少一个清理口，所述清理口连通所述清理腔；

喷淋头，所述喷淋头设于所述溶解腔内，且位于所述承载板的上方，所述喷淋头用于喷洒溶解液；以及

进气管，所述进气管位于所述过滤板的下方，所述进气管用于充入溶解金属铜的反应气体。

在其中一个方面，所述溶铜设备还包括可视窗，所述可视窗转动设置于所述清理口，以打开或关闭所述清理口。

在其中一个方面，所述可视窗包括窗框和透明板，所述窗框转动连接于所述清理口的边缘，所述透明板嵌设于所述窗框内。

在其中一个方面，所述承载板的表面设置多个第一通孔，所述过滤板的表面设置多个第二通孔，所述第一通孔的开孔面积为S1，所述第二通孔的开孔面积为S2，则满足：S1≥S2。

在其中一个方面，所述承载板的表面设置多个第一通孔，所述过滤板的表面设置多个第二通孔，所述第一通孔的开孔面积为S1，所述第二通孔的开孔面积为S2，则满足：S1≥5S2。

在其中一个方面，所述第二通孔的直径为D，则满足D≤40mm。

在其中一个方面，所述承载板和所述过滤板之间的高度距离为H₁，所述清理口的高度为H₂，则满足：H₁/2≤H₂≤H₁。

在其中一个方面，所述溶铜设备还包括加强板，所述加强板设置于所述承载板的下方，并抵接于所述承载板的下表面，其中：

所述加强板固定于所述罐体的内壁面；或

所述溶铜设备包括支撑柱，所述支撑柱的一端连接所述罐体的底面，另一端穿设所述过滤板，并向所述承载板延伸，所述加强板连接所述支撑柱的另一端。

在其中一个方面，所述加强板设有多个，多个所述加强板分布于所述承载板的下表面，所述清理口设置有多个，两相邻的所述加强板之间设置一所述清理口。