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- [实用新型]喷淋溶铜装置-CN202320377535.5有效
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陈磊;周季贵;尹卫华;邹迪华;张伟
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深圳惠科新材料股份有限公司
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2023-02-27
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2023-09-05
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B01J19/00
- 本申请公开了一种喷淋溶铜装置，涉及铜箔生产领域，喷淋溶铜装置的盖板翻转开合，具体包括转接管、伸缩管、喷头、第一动力机构和第二动力机构，所述转接管贯穿所述进液口，与所述盖板旋转配合连接，并与所述进液管旋转配合连接；所述伸缩管与所述转接管固定连接，所述喷头与所述伸缩管远离所述盖板的一端连接；所述第一动力机构与所述转接管传动连接，控制所述转接管绕自身中轴线旋转；所述第二动力机构与所述伸缩管传动连接，控制所述喷头与所述盖板之间的间距；其中，所述喷头朝向所述溶铜罐的底部设有多个喷淋孔，所述进液管、所述转接管、所述伸缩管和所述喷头相连通。通过上述设计，可以提高溶铜罐内部各处溶铜的均匀性，进而提高溶铜效率。
- 喷淋装置
- [发明专利]喷淋式溶铜设备-CN202310129564.4在审
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陈磊;周季贵;尹卫华;邹迪华;张伟
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深圳惠科新材料有限公司
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2023-01-31
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2023-05-23
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C25D1/04
- 本申请公开了一种喷淋式溶铜设备，涉及铜箔生产领域，所述喷淋式溶铜设备包括筒体、喷淋组件和加热组件，所述喷淋组件设置在所述筒体的顶部，对所述筒体内喷淋溶铜液；所述加热组件包括至少一个电热模块，所述电热模块设置在所述筒体内部靠近所述喷淋组件的一侧，加热从所述喷淋组件喷淋出的溶铜液，且所述加热组件不改变所述溶铜液的下落轨迹。通过上述设计，使得落在铜料上的溶铜液仍保持较高的温度，从而进行持续高效的溶铜，避免溶铜液从喷淋组件中喷出到落在铜料上由于散失较大热量后导致溶铜效率下降的情况；并且，还能够避免出现溶铜不均匀的问题。
- 喷淋式溶铜设备
- [发明专利]溶铜系统及其控制方法-CN202211682547.5在审
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陈磊;周季贵;尹卫华;邹迪华;张伟
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深圳惠科新材料有限公司
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2022-12-27
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2023-05-16
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B01F21/00
- 本申请公开了一种溶铜系统及其控制方法，涉及铜箔生产领域，所述溶铜系统包括至少一个喷淋式溶铜罐、滑轨、挤压件和控制件，每个所述喷淋式溶铜罐包括罐体和至少一个投料口，所述喷淋式溶铜罐用于溶解铜料；所述滑轨具有轨迹，所述轨迹与所述喷淋式溶铜罐对应设置，所述挤压件与所述滑轨滑动连接，所述挤压件沿所述轨迹移动，且所述投料口位于所述挤压件的移动范围内；所述控制件与所述挤压件连接，用于控制所述挤压件上升或下压；当所述喷淋式溶铜罐内的所述铜料的溶解速率下降时，所述挤压件移动到对应所述投料口的上方，所述控制件操控所述挤压件下压，挤压所述铜料，使所述铜料变形。通过上述设计，以提高铜料的溶解速率。
- 系统及其控制方法
- [实用新型]铜箔防氧化装置及生箔机-CN202223217390.7有效
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陈磊;高青有;周季贵;周新智;李存喜;李明;尹卫华
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深圳惠科新材料有限公司
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2022-11-30
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2023-04-21
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C25D17/00
- 本申请公开了一种铜箔防氧化装置及生箔机，涉及锂电铜箔设备技术领域，铜箔防氧化装置包括防氧化槽、第一液下辊、第二液下辊、电机，传动带，防氧化槽至少包括相对设置的第一侧壁和第二侧壁，第一液下辊和第二液下辊的两端分别与第一侧壁和第二侧壁活动连接；第二液下辊的一端与电机连接，第二液下辊的另一端与第一液下辊的一端通过传动带连接；铜箔防氧化装置还包括格挡件，格挡件设置在第一液下辊与第二液下辊之间，且格挡件的两端分别与第一侧壁和第二侧壁连接；格挡件部分露出于防氧化液的预设液面，且格挡件与防氧化槽的槽底具有一预设距离。本申请通过以上方式，有效防止由于电镀气泡破裂导致在铜箔表面形成污染点。
- 铜箔氧化装置生箔机
- [发明专利]溶铜设备-CN202211694116.0在审
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陈磊;周季贵;尹卫华;邹迪华;张伟
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深圳惠科新材料有限公司
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2022-12-28
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2023-03-31
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C25D1/04
- 本申请公开了一种溶铜设备，涉及铜箔设备领域，溶铜设备，用于溶解铜卷料，溶铜设备包括主体、盖体和第一出液口，所述主体内部中空形成具有开口的容纳腔，所述盖体盖合所述开口，所述铜卷料设置在容纳腔内，所述出液孔设置在所述盖体朝向所述容纳腔的一侧；所述溶铜设备还包括第二出液口，所述第二出液口设置在所述主体的内壁，且所述第二出液口和所述盖体之间的距离，大于所述铜卷料上表面与所述盖体之间的距离，反应液通过第一出液口和第二出液口作用在所述铜卷料上。通过上述设计，降低了铜卷料的结构强度，在不需要对铜卷料施加外力的情况下，铜卷料自身产生结构坍塌，提高了铜卷料的溶解速率。
- 设备
- [实用新型]生箔装置-CN202223196825.4有效
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周新智;陈磊;周季贵;张伟;尹卫华
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深圳惠科新材料有限公司
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2022-11-30
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2023-03-21
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C25D1/04
- 本申请公开了一种生箔装置，涉及铜箔设备领域，包括阳极槽、进液装置和阴极辊，阳极槽上的底部设置有进液口，进液装置设置在阳极槽的底部，并与进液口连通；阴极辊的两端分别设有转轴，阴极辊设置在阳极槽上，且阴极辊两端分别通过转轴与阳极槽连接；进液装置包括混液盒和多个鸭嘴阀，所述混液盒与所述进液口连通，多个所述鸭嘴阀设置在所述混液盒远离所述进液口的一侧，且每个鸭嘴阀分别与混液盒的底部连通；多个鸭嘴阀通过混液盒与进液口连通；进液装置还包括分散组件，分散组件设置在混液盒的底部，分散组件为多孔网格状结构；本申请通过以上设计，减小电解液对阴极辊冲击，避免泡泡沙现象。
- 装置
- [实用新型]溶铜系统-CN202222888178.7有效
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陈磊;尹卫华;周季贵;肖辉建;高青有;金易
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深圳惠科新材料有限公司
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2022-10-31
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2023-03-21
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C25D1/04
- 本申请公开了一种溶铜系统，包括污液槽、第一溶铜设备、第二溶铜设备、第一溶铜泵、第二溶铜泵和第三溶铜泵：污液槽设有溢流进口和电解液输出口；第一溶铜泵连通污液槽的电解液输出口和第一溶铜设备；第二溶铜泵和第三溶铜泵连通第二溶铜设备和第一溶铜设备；其中，第一溶铜设备和第二溶铜设备均设有溢流出口，第一溶铜设备和第二溶铜设备的溢流出口分别通过对应的溢流管道连接至污液槽的溢流进口，硫酸铜电解液由污液槽抽出，在第一溶铜设备和所述第二溶铜设备进行循环。本申请将电解液在污液槽以及第一溶铜设备和第二溶铜设备之间循环，利用硫酸和氧化铜的化学反应产生的热量提升溶铜温度，以提高溶铜速率。
- 系统
- [实用新型]研磨装置-CN202222639738.5有效
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陈磊;高青有;周季贵;周新智;李存喜;李明;张伟;尹卫华
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深圳惠科新材料有限公司
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2022-09-30
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2023-01-10
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B24B37/11
- 本申请公开了一种研磨装置，涉及铜箔设备领域，所述研磨装置包括磨床、驱动组件和磨头组件，所述驱动组件和所述磨头组件分别设置在所述磨床上，所述驱动组件与所述磨头组件连接，将所述磨头组件定位至所述阴极辊需要研磨的位置，所述磨头组件包括第一磨头和第二磨头，所述第一磨头和所述第二磨头分别与所述驱动组件连接；在所述阴极辊的轴向上，所述第一磨头和所述第二磨头错位且间隔设置，所述第一磨头和所述第二磨头分别与所述阴极辊平行设置，且所述第一磨头和所述第二磨头中的至少一个与所述阴极辊的表面接触；本申请通过以上设计，提高研磨效率，且保证研磨效果。
- 研磨装置
- [实用新型]生箔设备-CN202222626604.X有效
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高青有;陈磊;周季贵;黄建仁;尹卫华
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深圳惠科新材料有限公司
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2022-09-30
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2022-12-23
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B24B37/00
- 本申请属于铜箔生产技术领域，具体涉及一种生箔设备，包括阴极辊、研磨件和喷洗遮挡装置，所述喷洗遮挡装置包括：遮挡组件，所述遮挡组件包括第一遮挡件和第二遮挡件，所述第一遮挡件和所述第二遮挡件相互间隔设置，且所述第一遮挡件和所述第二遮挡件之间所形成的通道供所述研磨件的部分漏出，所述研磨件漏出的部分与所述阴极辊的辊面相贴合。本方案通过遮挡组件能够避免在对研磨件进行喷洗时污水四溅的问题，还可避免外界杂质进入研磨件中，保证研磨件的正常研磨和抛光工作状态，进而保证阴极辊辊面的平整度以及铜箔的品质。
- 设备
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