[实用新型]隔离式进气装置有效
申请号: | 202222036452.8 | 申请日: | 2022-08-03 |
公开(公告)号: | CN217709667U | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
发明(设计)人: | 苏欣;谈太德;姜崴;褚鑫辉;朱佳奇 | 申请(专利权)人: | 拓荆科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 姜波 |
地址: | 110179 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 隔离 式进气 装置 | ||
本实用新型提供了一种隔离式进气装置,涉及半导体设备的技术领域,包括进气主体和喷头结构;进气主体内设置有至少两条隔离通道,每条隔离通道呈单独连通,进气主体与喷头结构连接,且多条隔离通道分别与喷头结构连通,通过利用每个单独的隔离通道分别进行气体输送,同时每条隔离通道进行使用时,均可以保证每条隔离通道分别对喷头结构内输送多种气体,缓解了现有技术中存在的各种功能气体共用通道造成多站薄膜性能表现不一致,以及利用阀门隔断无法保证调控同时提高维护成本的技术问题。
技术领域
本实用新型涉及半导体设备技术领域,尤其是涉及一种隔离式进气装置。
背景技术
针对半导体设备的进气结构为各种功能气体共用,因功能气体各自具有不同的性质提前相遇导致反应产物污染衬底,或功能气体供应虽有特定时序但无法在切换时排净导致反应物污染衬底,或功能气体流动方向不可反向流入其他反应站造成多站薄膜性能表现不一致。
现有技术中,会在进气结构内部设置有阀门进行隔断,但是阀门隔断的方式无法准确保证每个功能气体进行输送的调控,同时阀门还需要经常维护,造成维护成本高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种隔离式进气装置,以缓解现有技术中存在的各种功能气体共用通道造成多站薄膜性能表现不一致,以及利用阀门隔断无法保证调控同时提高维护成本的技术问题。
本实用新型提供的一种隔离式进气装置,包括:进气主体和喷头结构;
所述进气主体内设置有至少两条隔离通道,每条所述隔离通道呈单独贯通,所述进气主体与所述喷头结构连接,且多条所述隔离通道分别与所述喷头结构连通,以通过每条所述隔离通道分别对所述喷头结构内输送多种气体。
在本实用新型较佳的实施例中,还包括三通主体;
所述三通主体包括一个进气端和两个出气端,所述进气主体设置有两组,两组所述进气主体分别与所述三通主体的两个出气端连接,且两组所述进气主体相对于所述三通主体呈对称布置,每组所述进气主体对应连接有一个所述喷头结构。
在本实用新型较佳的实施例中,所述隔离通道包括清洁通道,所述三通主体与所述清洁通道连通,所述三通主体用于分别向两组所述进气主体的所述清洁通道输送清洁气体,以使所述进气主体向对应的所述喷头结构输送清洁气体。
在本实用新型较佳的实施例中,还包括反应进气管路;
所述隔离通道还包括反应通道,所述反应进气管路的两端分别与两组所述进气主体连接,且所述反应进气管路与所述反应通道连通,所述反应进气管路用于分别向两组所述进气主体的所述反应通道内输送反应气体,以使所述进气主体向对应的所述喷头结构输送反应气体。
在本实用新型较佳的实施例中,所述进气主体包括进气结构和输气结构;
所述进气结构通过所述输气结构与所述喷头结构连接,所述进气结构分别与所述三通主体和所述反应进气管路连接;
所述隔离通道沿着所述进气结构贯穿所述输气结构,所述进气结构用于分别向每个所述隔离通道输送气体。
在本实用新型较佳的实施例中,所述进气结构内设置有第一清洁通道,所述输气结构内设置有第二清洁通道,所述第一清洁通道和所述第二清洁通道连通;
所述反应通道沿着所述进气结构贯穿所述输气结构。
在本实用新型较佳的实施例中,所述第一清洁通道位于所述进气结构内呈弧形设置,且弧形结构的所述第一清洁通道环设于所述反应通道的外部,弧形结构的所述第一清洁通道具有间隔段,所述反应进气管路能够贯穿所述间隔段与所述反应通道连通。
在本实用新型较佳的实施例中,所述第二清洁通道包括第一入口端和环形段;
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的