[实用新型]一种测漏系统有效

专利信息
申请号: 202221767045.8 申请日: 2022-07-07
公开(公告)号: CN217605222U 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 崔尚坤;朱海洋;李飞;王维斌;李龙祥 申请(专利权)人: 盛合晶微半导体(江阴)有限公司
主分类号: G01M3/26 分类号: G01M3/26
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 214437 江苏省无锡市江阴市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 系统
【说明书】:

实用新型提供一种测漏系统,包括主抽真空管路、预抽真空管路及探测装置;所述主抽真空管路的第一端连接腔室,第二端连接真空泵;所述主抽真空管路上从第一端到第二端依次设置有摆阀及分子泵;所述预抽真空管路的第一端连接所述腔室,第二端连接在所述真空泵与所述分子泵之间的管路上;所述预抽真空管路上设置有真空阀;所述探测装置连接在所述真空阀与所述腔室之间的管路上;所述探测装置包括探测管路及探测器;所述探测管路的第一端连接在所述真空阀与所述腔室之间的管路上,第二端连接所述探测器;所述探测管路上设置有开关阀。本实用新型的测漏系统很大程度上减少了泄露时长,不用部分拆卸,可有效防止设备二次污染,提高生产力及良率。

技术领域

本实用新型涉及半导体领域,特别是涉及一种测漏系统。

背景技术

目前,在工艺腔体中,硅刻蚀时的真空管路复杂,易漏点较多,在现有真空管路中测漏时需要气体吹扫3个小时,系统宕机1个小时后,才可以测试准确,因此排查漏点耗时很长。在测漏时,需要拆卸零部件,进而会给工艺腔体带来各种污染。

因此,如何解决硅刻蚀时排查漏点时间长的问题,已经成为本领域技术人员亟待解决的问题之一。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种测漏系统,用于解决现有技术中硅刻蚀时排查漏点时间长的问题。

为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一测漏系统,包括主抽真空管路、预抽真空管路及探测装置;

所述主抽真空管路的第一端连接腔室,第二端连接真空泵;所述主抽真空管路上从第一端到第二端依次设置有摆阀及分子泵;

所述预抽真空管路的第一端连接所述腔室,第二端连接在所述真空泵与所述分子泵之间的管路上;所述预抽真空管路上设置有真空阀;

所述探测装置连接在所述真空阀与所述腔室之间的管路上;所述探测装置包括探测管路及探测器;所述探测管路的第一端连接在所述真空阀与所述腔室之间的管路上,第二端连接所述探测器;所述探测管路上设置有开关阀。

可选地,所述真空泵为干式真空泵。

可选地,所述探测器通过密封环连接在所述探测管路的第二端。

可选地,所述探测器为惰性气体探测器。

更可选地,所述探测器为氦气探测器。

可选地,所述腔室为硅刻蚀工艺腔室。

可选地,所述开关阀为手阀。

如上所述,本实用新型的测漏系统,具有以下有益效果:

1,本实用新型的测漏系统通过增加手阀调节机构,使用氦气探测器可明显缩短漏点排查时间;向可能漏的节点轻喷氦气,若有泄露氦气探测器压力变化非常明显,从而快速找到漏点。

2,本实用新型的测漏系统可以避免拆卸非相关部分,减少腔体污染;系统操作步骤简单,从而增加运行时间。

附图说明

图1显示为一种真空管路的结构示意图。

图2显示为本实用新型的测漏系统的结构示意图。

元件标号说明

1 主抽真空管路

11 摆阀

12 分子泵

2 预抽真空管路

21 真空阀

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