[实用新型]承载槽清洗装置

说明书

本实用新型涉及一种承载槽清洗装置，包括固定结构、排液结构、清洗结构和风干结构；所述固定结构包括固定基台，以及设置于所述固定基台上的固定柱；所述排液结构包括排液管、过滤槽和离心泵，所述排液管和所述离心泵之间设置有所述过滤槽；所述清洗结构包括用于向承载槽内喷清洗液的清洗管和与所述清洗管连通的供水结构；所述风干结构包括用于向承载槽提供惰性气体的进气管和与所述进气管连通的供气结构。

技术领域

本实用新型涉及清洗技术领域，尤其涉及一种承载槽清洗装置。

背景技术

在目前的最终抛光机加工制程中，在硅片加工结束后，卸载部机械手将硅片放置在卸载部水槽内，利用水车将水槽推送至下一道工序再进行加工(水槽固定在水车上)，由于水槽不能加装盖板，长时间环境中的一些微粒或者灰尘会掉落在水槽，导致水槽内的制品Particle超标；另外还有在设备发生故障，例如卸载部机械臂在往水槽放置硅片时发生异常，需要手动将水槽拿出，这样可能二次污染水槽，影响制品表面的Particle，降低制品的良率。因此，需要定期对水槽进行清洗，清洗时是通过水枪冲洗水槽，水槽由于需固定在水车上，底部不能加排水，故清洗完水槽，需用容器将清洗后的水盛出，倒进废水池，然后擦拭水槽内壁。这种方式费时，费力效率低，并且清洗不彻底。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种承载槽清洗装置，解决清洗承载槽效率低且清洗不彻底的问题。

为了达到上述目的，本实用新型实施例采用的技术方案是：一种承载槽清洗装置，其特征在于，包括固定结构、排液结构、清洗结构和风干结构；

所述固定结构包括固定基台，以及设置于所述固定基台上的固定柱；

所述排液结构包括排液管、过滤槽和离心泵，所述排液管和所述离心泵之间设置有所述过滤槽；

所述清洗结构包括用于向承载槽内喷清洗液的清洗管和与所述清洗管连通的供水结构；

所述风干结构包括用于向承载槽提供惰性气体的进气管和与所述进气管连通的供气结构。

可选的，还包括：

固定基板，所述固定基板与所述固定基台相垂直设置；

盖板，沿第一方向可移动的设置于所述固定基板上，所述盖板上设置有供所述排液管和所述清洗管穿过的通孔，所述第一方向为垂直于所述固定基台的方向。

可选的，所述盖板包括第一子盖板和第二子盖板，所述第一子盖板上设置有供所述清洗管穿过的第一通孔，所述第二子盖板上设置有供所述排液管穿过的第二通孔，所述固定基板上设置有用于分别控制所述第一子盖板和所述第二子盖板在所述第一方向上移动的升降结构。

可选的，还包括移动结构，用于控制所述固定基板在垂直于所述第一方向的第二方向移动，以带动所述排液管和所述清洗管在所述第二方向上移动。

可选的，所述移动结构包括沿所述第二方向延伸设置于所述固定基板上的齿条，所述齿条通过齿轮与驱动电机连接。

可选的，所述清洗管包括多个相交替连接的直管部分和弯管部分，所述清洗管位于所述第一通孔远离所述固定基台的部分的直径大于所述清洗管位于所述第一通孔靠近所述固定基板的部分的直径。

可选的，所述清洗管位于所述第一通孔远离所述固定基台的部分包括第一子部分和第二子部分，所述第一子部分和所述第二子部分之间通过旋转接头连接；

所述清洗结构还包括旋转驱动部和与所述第二子部分传动连接的传动带，所述旋转驱动部控制所述传动带旋转，从而带动所述第二子部分旋转。

可选的，所述清洗管靠近所述固定基台的一端设置有雾化喷头。