[实用新型]一种刻蚀处理装置有效
| 申请号: | 202221509373.8 | 申请日: | 2022-06-14 |
| 公开(公告)号: | CN218178142U | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
| 发明(设计)人: | 孙书雄;刘旭华;管昌新;张锐;李剑 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号: | F16L3/22 | 分类号: | F16L3/22;F16B39/24;H01L21/311 |
| 代理公司: | 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 | 代理人: | 张琦 |
| 地址: | 430205 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 刻蚀 处理 装置 | ||
本申请公开了一种刻蚀处理装置,包括第一槽体、进液管道、连接件以及第一垫片。第一槽体具有第一容纳腔;进液管道设置在第一容纳腔中,进液管道通过连接件与第一槽体连接;第一垫片的至少部分位于连接件与进液管道之间,第一垫片与连接件以及进液管道触接。本申请实施例中,在连接件与进液管道之间增加第一垫片,让连接件接触进液管道变为连接件接触第一垫片,而连接件与第一垫片触接时产生的摩擦力更大,减少连接件发生松动情况,从而能够更好的固定住连接件,进而固定住进液管道。
技术领域
本实用新型涉及芯片刻蚀技术领域,尤其涉及一种刻蚀处理装置。
背景技术
三维存储器是一种新兴的闪存类型,通过把内存颗粒堆叠在一起来打造出高存储容量的存储芯片。在三维存储器芯片的交替堆叠的结构中,需要通过对氮化物和氧化物的选择性刻蚀获得层间介质层,堆叠层数越多,芯片性能越好,但高层堆叠的芯片的刻蚀均匀性也更难保持。在进行芯片的选择性刻蚀中,为了尽量保持刻蚀的均匀性,可以改善处理槽内液体流动的均匀性,减少刻蚀沉积回沾的现象。
实用新型内容
本实用新型提供一种刻蚀处理装置,能够减少连接件发生松动的情况,从而更好的固定住进液管道。
本申请实施例提供一种刻蚀处理装置,包括第一槽体、进液管道、连接件以及第一垫片。所述第一槽体具有第一容纳腔;所述进液管道设置在所述第一容纳腔中,所述进液管道通过所述连接件与所述第一槽体连接;所述第一垫片的至少部分位于所述连接件与所述进液管道之间,所述第一垫片与所述连接件以及所述进液管道触接。
根据一些实施例,所述第一槽体的内壁上设置有支撑结构,所述进液管道与所述支撑结构可拆卸连接。所述进液管道与所述支撑结构的可拆卸连接有利于所述进液管道的检查与更换等。
根据一些实施例,所述连接件包括螺栓与螺帽,所述螺栓贯穿所述进液管道且与所述支撑结构螺纹连接;所述第一垫片包括第一部分,所述第一部分位于所述连接件与所述进液管道之间,所述第一部分设置有供螺栓穿过的开孔。所述螺帽套设在所述螺栓上,所述螺帽与所述螺栓拧在一起,以对所述进液管道与所述支撑结构的连接起到紧固作用,在所述螺帽与所述进液管道之间设有所述第一垫片,而所述螺栓穿过所述第一垫片的第一部分上的开孔,所述螺帽触接并压紧所述第一垫片的第一部分,从而将所述进液管道压紧于所述支撑结构,减少了所述螺栓相对于所述进液管道的移动,减少所述进液管道的松动情况。
根据一些实施例,所述支撑结构位于所述进液管道远离所述第一部分的一侧,所述处理装置还包括第二垫片,所述第二垫片设置于所述进液管道与所述支撑结构之间,所述第二垫片与所述进液管道以及所述支撑结构触接。所述第二垫片可以加强所述进液管道与所述支撑结构之间的连接密封性,防止所述第一容纳腔内的液体泄漏到所述进液管道与所述支撑结构之间,进而防止所述进液管道与所述支撑结构之间受到泄露进来的液体的压力、腐蚀或热胀冷缩等影响,减少所述螺栓因所述进液管道与所述支撑结构之间泄露进来的液体而发生松动的情况。
根据一些实施例,所述第一垫片还包括第二部分,所述第二部分套接于所述第二垫片的外侧,且所述第二部分与所述第二垫片抵接,所述第一部分与所述第二部分连接。使用双层垫片进行密封,可以提升密封性能,可以防止所述第一容纳腔内的液体从所述进液管道和所述支撑结构之间的缝隙中渗进,从而防止所述进液管道和所述支撑结构之间受到液体的压力、腐蚀或热胀冷缩等影响。而且,所述第一垫片与所述第二垫片的材质之间产生的摩擦力较大,减小了所述第一垫片与所述第二垫片之间发生松动的可能性。
根据一些实施例,所述第一垫片和所述第二垫片中的一者为聚四氟乙烯垫片,所述第一垫片和所述第二垫片中的另一者为橡胶垫片。第一垫片和第二垫片需要具有良好的密封性以及耐酸碱、耐化学品腐蚀、耐大气老化等作用,故可以选用聚四氟乙烯垫片和橡胶垫片,且因为所述第一垫片的材质原因,使得所述螺帽与所述第一垫片之间触接产生的摩擦力较大,所以所述螺帽不易发生松动。
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