[实用新型]一种顶出机构及排晶机有效
| 申请号: | 202221492620.8 | 申请日: | 2022-06-15 |
| 公开(公告)号: | CN217588896U | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
| 发明(设计)人: | 邱国诚;周峻民;李浩然;林琪生 | 申请(专利权)人: | 东莞市德镌精密设备有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵菲 |
| 地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 机构 排晶机 | ||
本实用新型涉及半导体加工装置技术领域,具体公开了一种顶出机构,包括:座体;顶针,顶针可滑动地连接于座体上;顶力调节装置,顶力调节装置的第一端与顶针一端连接,以调节顶针的顶力大小;直线驱动装置,直线驱动装置固定安装于座体上,直线驱动装置与顶力调节装置的第二端驱动连接,以驱使顶力调节装置在座体上进行往复直线运动。通过顶力调节装置对顶针的顶力大小进行调节,从而使得顶针在进行顶晶操作时,既可以完成对基板装载面平面度更大的顶晶操作,又可以避免晶粒在顶出操作时产生顶翻、顶伤的状况,进而有利于提升顶晶加工效率和顶晶加工质量,以便于顶晶操作的快速、有效完成。
技术领域
本实用新型涉及半导体加工装置技术领域,尤其涉及一种顶出机构及排晶机。
背景技术
随着半导体技术的不断进步,半导体零件中圆晶晶粒的应用也日趋广泛。由于晶粒较为精细、尺寸也较小巧,那么在将胶带上的晶粒排到基板上时,通常都会使用到顶出机构。然而,现有的顶出机构对晶粒的顶出力度大小通常都是固定的、不可以调节的,那么其在顶出晶粒时,对基板装载面的平面度要求较高,且容易产生晶粒顶翻、顶伤等状况,从而不利于晶粒加工效率和加工质量的提升。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供一种顶出机构,解决现有技术中顶出力度大小不可以调节的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供以下的技术方案:
一种顶出机构,包括:
座体;
顶针,所述顶针可滑动地连接于所述座体上;
顶力调节装置,所述顶力调节装置的第一端与所述顶针一端连接,以调节所述顶针的顶力大小;
直线驱动装置,所述直线驱动装置固定安装于所述座体上,所述直线驱动装置与所述顶力调节装置的第二端驱动连接,以驱使所述顶力调节装置在所述座体上进行往复直线运动。
可选的,所述顶力调节装置包括空气轴承,所述空气轴承的通气气压为0.005~0.1Mpa,以使所述顶针的顶力为0.02~1N。
可选的,所述直线驱动装置包括驱动件和滑动座,所述滑动座可滑动地连接于所述座体上,所述驱动件固定安装于所述座体上,且所述驱动件的活动端与所述滑动座固定连接,所述顶力调节装置的第二端固定连接于所述滑动座上。
可选的,所述直线驱动装置还包括导向件,所述导向件包括第一导轨和滑动连接于所述第一导轨上的第二导轨,所述第一导轨固定连接于所述座体上,所述第二导轨固定连接于所述滑动座上。
可选的,所述直线驱动装置还包括光栅尺,所述光栅尺固定连接于所述座体上,所述光栅尺上设有刻度尺,所述刻度尺滑动设置于所述光栅尺上,且所述刻度尺一端与所述滑动座固定连接。
可选的,该顶出机构还包括:
限位件,所述限位件固定连接于所述座体上,所述限位件上设有通孔;
所述顶针贯穿所述通孔,所述顶针上设有限位凸块,所述限位凸块的外径大于所述通孔的孔径,所述顶力调节装置的第一端固定连接于所述限位凸块上。
本实用新型还提供了一种排晶机,包括排晶机本体和上述的顶出机构,所述顶出机构固定连接于所述排晶机本体上。
与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





