[实用新型]一种曝光机曝光对准平台运行监测系统有效
| 申请号: | 202221316527.1 | 申请日: | 2022-05-27 |
| 公开(公告)号: | CN217386138U | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
| 发明(设计)人: | 李强;冯晋荃;刘建哲;祝小林;江虹;徐良 | 申请(专利权)人: | 黄山博蓝特半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司: | 杭州凌通知识产权代理有限公司 33316 | 代理人: | 叶绿林 |
| 地址: | 245000 安徽省黄山*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 曝光 对准 平台 运行 监测 系统 | ||
本实用新型公开了一种曝光机曝光对准平台运行监测系统,包括曝光对准平台,带动曝光对准平台水平运动的驱动丝杆;所述驱动丝杆的竖直方向上设置有纵向监测千分表,所述驱动丝杆的水平方向上设置有横向监测千分表;所述纵向监测千分表和横向监测千分表连接设置有数据读取装置,所述数据读取装置通讯信号连接设置有远程终端;所述远程控制终端内设置有信号接收模块,将信号接收模块获得的数据与设定值进行比对的数据处理模块,所述远程终端还连接设置有警报装置。本实用新型能够实时监测曝光对准平台的运行情况并作出警报,从而及时通过检修人员进行检修,提高产品的加工良率,可广泛应用于晶片加工技术领域。
技术领域
本实用新型涉及晶片加工技术领域,尤其是涉及一种曝光机曝光对准平台运行监测系统。
背景技术
在晶片加工技术领域,曝光显影是最常用的技术手段。曝光通常是在曝光机中进行,曝光机上设置有用于装在晶片的曝光对准平台,曝光对准平台通过丝杆带动移进移出,实现曝光对准平台上的晶片放料、取料及曝光。在使用过程中发现,丝杆在运行一段时间后,会出现磨损和变形,变形主要有横向变形和纵向变形,导致丝杆转动设定的转数后,不能到达预设的位置,从而造成曝光的偏差,影响晶片的后续加工和产品的良率。现有的方法是当出现良率下降时,对设备进行检修,更换丝杆及其配合件;同时,通过人工定期用千分表对丝杆进行检测,该方法不仅操作不方便,费时费力,同时,不能实时对丝杆的运行进行检测,存在检修不及时的隐患。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种曝光机曝光对准平台运行监测系统,解决现有曝光对准平台不能实时监测运行情况的问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种曝光机曝光对准平台运行监测系统,包括曝光对准平台,带动曝光对准平台水平运动的驱动丝杆;所述驱动丝杆的竖直方向上设置有监测丝杆纵向变形量及磨损量的纵向监测千分表,所述驱动丝杆的水平方向上设置有监测丝杆横向变形量及磨损量的横向监测千分表;所述纵向监测千分表和横向监测千分表连接设置有数据读取装置,所述数据读取装置通讯信号连接设置有远程终端;所述远程控制终端内设置有接收数据读取装置发出的数据信号的信号接收模块,将信号接收模块获得的数据与设定值进行比对的数据处理模块,所述远程终端还连接设置有警报装置,数据处理模块根据比对的结果控制警报装置工作。
优选的,所述纵向监测千分表和横向监测千分表为数显千分表,还设置有千分表安装支架,所述千分表安装支架与曝光对准平台固定连接,随曝光对准平台一起移动。
进一步的,所述警报装置同时设置在曝光机边上和远程终端上。
优选的,所述警报装置包括蜂鸣器和发光装置。
本实用新型的有益效果:本实用新型通过千分表实时监测丝杆的深度变化,来判定丝杆的磨损情况,并通过数据读取装置显示,方便现场人员观看,同时,通过信号传送至远程终端,远程终端不断将千分表获得的数据与丝杆的标准数据做比对,当偏差超过预设的偏差范围时,则会影响曝光的良率,即需要维修或者更换丝杆。此时,远程终端控制警报装置发出警报,提醒操作人员控制曝光机停机进行检修。
以下将结合附图和实施例,对本实用新型进行较为详细的说明。
附图说明
图1为本实用新型的系统框图。
图2为本实用新型千分表的安装示意图。
具体实施方式
实施例,如图1至2所示,一种曝光机曝光对准平台运行监测系统,包括曝光对准平台1,带动曝光对准平台1水平运动的驱动丝杆2。为实时监测驱动丝杆2的磨损和变形情况,所述驱动丝杆2的竖直方向上设置有监测丝杆纵向变形量及磨损量的纵向监测千分表3,所述驱动丝杆2的水平方向上设置有监测丝杆横向变形量及磨损量的横向监测千分表7。所述千分表3优选采用数显千分表,还设置有千分表安装支架8,所述千分表安装支架8与曝光对准平台1固定连接,随曝光对准平台1一起移动。
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