[实用新型]一种等离子体设备的电极板位置调节装置

说明书

本实用新型公开了一种等离子体设备的电极板位置调节装置，包括可调节高低的侧边承托机构和可调节高低的导电插头连接机构，所述侧边承托机构安装于电极板两侧，所述导电插头连接机构连接于电极板与导电插头之间。本实用新型与现有技术相比的优点是：可根据工艺均匀性的结论来调节电极板的位置、间距，间接调整对应电极板位置的去胶速率，可有效地让整个腔体内部的去胶速率达到一致的水平，提高了整体去胶速率的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及调节机构，尤其涉及一种等离子体设备的电极板位置调节装置。

背景技术

在晶圆制造的工艺中，等离子体扫胶设备是整个生产工艺中不可或缺的设备，随着时代发展和科学技术的进步，晶圆制造工艺中对等离子去胶的均匀性要求越来越高。功率电极板是等离子设备的重要部件，射频功率馈入功率电极板，从而在真空腔体内产生等离子体。

传统的等离子去胶设备，其功率电极板的位置是固定不变的，或者可调节范围很有限，由于电极板之间的距离对等离子体的去胶速率影响很大，而且在整个腔体内部，等离子体的强度是呈现出上层大于下层的规律，因此去胶工艺均匀性的优化方案也变得很局限。电极板的位置如果可以灵活的调节，那么整个腔体的均匀性会变得更好。

一般情况下，等离子体设备腔体内部有13个插槽，插槽与插槽间的距离相等，每个插槽可以安装一块电极板，因此电极板的距离等于插槽距离的几何倍数，在去胶均匀性的调节过程中，会出现电极板之间距离要么太大，去胶速率偏高，要么太小，去胶速率偏低，从而影响整个腔体的去胶均匀性。

因此，研发一种等离子体设备的电极板位置调节装置，成为本领域技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型是为了解决上述不足，提供了一种等离子体设备的电极板位置调节装置。

本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现：一种等离子体设备的电极板位置调节装置，包括可调节高低的侧边承托机构和可调节高低的导电插头连接机构，所述侧边承托机构安装于电极板两侧，所述导电插头连接机构连接于电极板与导电插头之间。

进一步地，所述侧边承托机构包括螺母件、调节螺杆件和绝缘陶瓷支架，所述螺母件一侧连接有支撑滚轮，支撑滚轮安装并行走于等离子体设备腔体内壁的滑轨上；所述绝缘陶瓷支架上设有连接孔，所述调节螺杆件上端与绝缘陶瓷支架可旋转插接。

进一步地，所述连接孔为半沉孔，所述调节螺杆件上端设有与半沉孔匹配的半沉头，即调节螺杆件上端呈“倒T形”结构，所述调节螺杆件上端半沉头可旋转插接于半沉孔中。

进一步地，所述导电插头连接机构包括调节块和电极板连接端，调节块外侧连接有导电插头，导电插头插接于电极柱上的插槽；所述调节块上设有腰形孔，所述电极板连接端的一端设有丝孔，并通过调节块上腰形孔中的顶丝或螺丝锁紧连接，电极板连接端的另一端与电极板连接。

进一步地，所述调节块呈“匚”形，所述腰形孔设置在其两侧，所述电极板连接端的一端置入调节块内部，所述丝孔设置在电极板连接端两侧，并通过顶丝或螺丝来锁紧连接。

使用时，可先将螺杆件旋转到低位，与电极板插槽位置尽可能水平，再将所有电极板安装到对应的插槽中，可通过当前结构得到的去胶均匀性结果来调节电极板的高度，如果某一层去胶速率偏底，则将该层的电极板间距调小，电极板间的距离越小，等离子体的浓度就越大，去胶速率也随之变大，反之去胶速率偏高则调大间距，在调节电极板高度的时，需要侧边承托机构和导电插头连接机构同时调节，可通过水平仪测量电极板的水平程度，确保每个可调节位置的调整幅度一致。因此更精确的去胶速率调节可以使整体的去胶均匀性变的更好。

本实用新型与现有技术相比的优点是：可根据工艺均匀性的结论来调节电极板的位置、间距，间接调整对应电极板位置的去胶速率，可有效地让整个腔体内部的去胶速率达到一致的水平，提高了整体去胶速率的均匀性。

附图说明