[实用新型]反射式相位对比显微成像装置

说明书

本实用新型属于显微成像技术领域，涉及一种反射式相位对比显微成像装置，包括光源单元、半透半反镜片、相位环、聚焦物镜、反射镜、激光束、双色镜和成像单元；所述光源单元产生的光依次透过半透半反镜片、相位环、双色镜和聚焦物镜至反射镜反射后，反射光依次穿过聚焦物镜、双色镜、相位环和半透半反镜片在成像单元上成像；成像单元包括相机和成像镜头；反射光依次穿过半透半反镜片和成像镜头在相机上成像。本实用新型能兼容各类数控机床和激光加工系统，成像结构简单、占空间小，成本低。

技术领域

本实用新型属于显微成像技术领域，涉及一种反射式相位对比显微成像装置。

背景技术

相位对比显微镜(PCM)是利用光的衍射和干涉现象，把相位差变为振幅差来观察活细胞、光子集成器件、光纤等透明/半透明样品的显微方法。目前商业PCM都是基于透射式显微镜改装的，具体结构(参见图3)是：在照明光路(底光源14、准直镜8和聚光镜13组成的光路)中增加相位环4、成像光路中加入相位对比物镜12，不同的折射率在成像系统的焦平面上就能形成强度的变化。虽然现有的商业PCM能实现显微成像，但是存在以下问题：

(1)现有的商业PCM，照明光源和成像模块在聚焦物镜两侧，需要使用两个相位环，结构复杂，光路较长，空间大；

(2)由于数控机床结构强度要求高，不适合做成大行程的镂空透光结构，因此在大型机器视觉检测系统、激光微纳加工系统、影像分析系统中均采用反射式照明，因此在大型数控、复杂结构、激光加工系统中无法使用这种成像质量更好的相位对比显微成像方法，使得使用受到限制；

(3)现有的商业PCM，采用的相位对比物镜，价格昂贵，成本高。

实用新型内容

针对现有PCM存在的技术问题，本实用新型提供一种反射式相位对比显微成像装置，能兼容各类数控机床和激光加工系统，成像结构简单、占空间小，成本低。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种反射式相位对比显微成像装置，包括光源单元、半透半反镜片、相位环、聚焦物镜、反射镜、激光束、双色镜和成像单元；所述光源单元产生的光依次透过半透半反镜片、相位环、双色镜和聚焦物镜至反射镜反射后，反射光依次穿过聚焦物镜、双色镜、相位环和半透半反镜片在成像单元上成像，所述激光束位于光源单元下方且激光束射向双色镜。

进一步的，所述成像单元包括相机和成像镜头；所述反射光依次穿过半透半反镜片和成像镜头在相机上成像。

进一步的，所述光源单元包括照明光源和准直镜；所述照明光源产生的光经准直镜后透过半透半反镜片。

进一步的，所述照明光源为LED灯或者白炽灯。

进一步的，所述聚焦物镜为透射式物镜或者反射式物镜。

进一步的，所述相位环规格为按照国标的物镜的通过孔径分为10倍、20倍、40倍或60倍。

一种反射式相位对比显微成像装置，包括光源单元、半透半反镜片、相位环、聚焦物镜、反射镜和成像单元；所述成像单元、半透半反镜片、聚焦物镜和反射镜从上自下依次设置；所述相位环置于成像单元和半透半反镜片之间、或半透半反镜片与聚焦物镜之间、或置于聚焦物镜上；所述光源单元产生的光射在半透半反镜片上，所述光源单元产生的光射在半透半反镜片上，并透过半透半反镜片和聚焦物镜至反射镜反射后，反射光依次穿过聚焦物镜和半透半反镜片在成像单元上成像。

进一步的，所述成像单元包括从上自下依次设置的相机和成像镜头；所述成像镜头位于半透半反镜片上方；所述相位环置于成像镜头和半透半反镜片之间。

进一步的，所述光源单元包括照明光源和准直镜；所述照明光源产生的光经准直镜后射在半透半反镜片上。