[实用新型]一种硅片清洗装置

权利要求书

1.一种硅片清洗装置，包括清洗筒(1)，其特征在于：所述清洗筒(1)底端设置有伸缩杆(12)，所述伸缩杆(12)上端设置有支撑盘(13)，所述清洗筒(1)底端开设有排水口(24)，所述清洗筒(1)壁上开设有注水口(23)，所述清洗筒(1)上设置有齿轨(6)，所述清洗筒(1)上方设置有清洗盖体(9)，所述清洗盖体(9)一侧设置有第一马达(10)，所述第一马达(10)的输出轴连接第一转轴(8)，所述第一转轴(8)贯穿清洗盖体(9)设置，所述第一转轴(8)上设置有双向螺纹槽(14)，所述第一转轴(8)上的双向螺纹槽(14)上设置有清理机构(11)，所述第一转轴(8)两端均设置有齿轮(7)，所述齿轮(7)与齿轨(6)啮合，所述第一转轴(8)上设置有清理机构(11)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述清理机构(11)包括工型杆(16)、第二马达(17)、第二转轴(18)、支撑座(19)、第三转轴(20)、清理滚刷(21)，所述第一转轴(8)通过双向螺纹槽(14)与工型杆(16)连接，所述工型杆(16)下方设置有第二马达(17)，所述第二马达(17)的输出端设置有第二转轴(18)，所述第二转轴(18)贯穿工型杆(16)设置，所述第二转轴(18)上设置有滚体(22)，所述滚体(22)上设置有支撑座(19)，所述支撑座(19)上设置有第三转轴(20)，所述第三转轴(20)上设置有清理滚刷(21)。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述清洗筒(1)侧壁上铰接设置有仓门(2)，所述仓门(2)上设置有手柄(3)。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述双向螺纹槽(14)包括两个首尾相连的正转螺纹槽和反转螺纹槽。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述双向螺纹槽(14)两端均设置有限位片(25)。

6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述第一转轴(8)两侧的清洗盖体(9)上均设置有限位块(15)。

7.根据权利要求2所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述清理滚刷(21)侧壁为弧面设置。