[实用新型]多层坩埚及具有其的长晶炉有效

专利信息
申请号: 202220732362.X 申请日: 2022-03-31
公开(公告)号: CN217149385U 公开(公告)日: 2022-08-09
发明(设计)人: 田野;陈俊宏 申请(专利权)人: 徐州鑫晶半导体科技有限公司
主分类号: C30B15/10 分类号: C30B15/10;C30B29/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 221000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多层 坩埚 具有 长晶炉
【权利要求书】:

1.一种多层坩埚,其特征在于,包括从内到外依次同轴设置的内坩埚、中坩埚和外坩埚;

所述内坩埚限定出晶体生长空间,所述中坩埚与所述内坩埚限定出熔料空间,所述中坩埚与所述外坩埚限定出加料空间;

在所述熔料空间中,沿所述内坩埚的周向设置有第一遮挡件,所述第一遮挡件与所述内坩埚的侧壁以及所述中坩埚的侧壁连接;

所述内坩埚的侧壁形成有连通所述晶体生长空间与所述熔料空间的第一过孔,所述中坩埚的侧壁形成有连通所述熔料空间与所述加料空间的第二过孔,所述第一过孔靠近所述内坩埚的底壁设置,所述第二过孔靠近所述中坩埚的底壁设置。

2.根据权利要求1所述的一种多层坩埚,其特征在于,在所述外坩埚轴向方向的截面中,所述第一过孔与第二过孔分别设置于内坩埚的轴线两侧。

3.根据权利要求1所述的一种多层坩埚,其特征在于,在所述内坩埚轴向方向的截面中,所述第一遮挡件呈向远离所述内坩埚的底壁凸起的弧形结构。

4.根据权利要求1所述的一种多层坩埚,其特征在于,在所述加料空间中,沿所述中坩埚的周向设置第二遮挡件,所述第二遮挡件与所述外坩埚的侧壁以及所述中坩埚的侧壁连接,所述第二遮挡件沿所述中坩埚的周向具有环形的加料口。

5.根据权利要求4所述的一种多层坩埚,其特征在于,在所述外坩埚轴向方向的截面中,所述第二遮挡件呈向所述外坩埚的底壁凸起的弧形结构。

6.根据权利要求1所述的一种多层坩埚,其特征在于,在所述熔料空间中,沿所述中坩埚的周向设置第三遮挡件,所述第三遮挡件设置于所述第一遮挡件的下方,所述第一遮挡件、所述第三遮挡件、所述内坩埚的侧壁和所述中坩埚的侧壁共同限定出隔热空间。

7.根据权利要求6所述的一种多层坩埚,其特征在于,在所述中坩埚轴向方向的截面中,所述第三遮挡件呈向远离所述外坩埚的底壁凸起的弧形结构,或者呈向所述外坩埚的底壁凸起的弧形结构。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的一种多层坩埚,其特征在于,所述内坩埚的底壁与所述中坩埚的底壁以及所述外坩埚的底壁叠设连接共同形成多层坩埚的底壁。

9.根据权利要求8所述的一种多层坩埚,其特征在于,所述内坩埚的底壁以其轴线为中心限定出第一底口,所述外坩埚的底壁以其轴线为中心限定出第二底口,在所述中坩埚轴向方向的截面中,所述中坩埚的底壁呈远离熔汤液面的弧形结构,所述中坩埚的底壁延伸至所述第二底口外。

10.一种长晶炉,其特征在于,包括:如权利要求1-9中任一项所述的多层坩埚。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于徐州鑫晶半导体科技有限公司,未经徐州鑫晶半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202220732362.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top