[实用新型]晶圆自动涂源装置

说明书

本实用新型涉及一种晶圆自动涂源装置，属于晶圆涂源领域，包括机架及用于固定晶圆片的晶圆放置盘，晶圆放置盘在工作状态下呈旋转状态，其特征在于，还包括水平滑轨，水平移动支架与水平滑轨以滑动方式相连；顶升机构、毛笔连接架、执笔夹、毛笔、试剂瓶，毛笔与执笔夹固定相连，其前端为刷头；及输送管，其与毛笔连接架固定相连，输送管的一端深入试剂瓶内，输送管的另一端伸入毛笔的刷头中并与刷头保持相对固定；本实用新型无需蘸取动作即可保证毛笔刷头上源液的稳定供给，且避免了摆臂的动作，避免摆臂导致的甩溅等现象。

技术领域

本实用新型涉及晶圆涂源技术领域，具体涉及一种晶圆自动涂源装置。

背景技术

随着电子产品的不断发展，对芯片的要求也越来越高。随着芯片的大规模生产，磷液、金液的涂源需要通过手动涂源来进行，而手动涂源机不仅仅需要人力，而且耗电量、源用量的消耗颇高，生产效率低下。

现有技术，申请号为2021109415734的实用新型专利公开了一种涂源机，在PP碗形防护罩内设置用于吸附连接产品主体的旋转吸盘，PP碗形防护罩外侧设置溶剂瓶并配以磁力搅拌，产品主体的涂覆机构采用一摆臂端部设执笔倾斜气缸，执笔倾斜气缸一侧表面固定安装毛笔固定座，将毛笔固定在毛笔固定座上，用于对连接在旋转吸盘上的硅片进行涂源。使用时，摆臂带动毛笔蘸取溶剂瓶内的源液然后配合吸盘的旋转以及执笔倾斜气缸的倾斜和竖直两种状态的切换来完成涂源操作。这种结构比较复杂，尤其是需要摆臂来回摆动来蘸取和涂源，而且蘸取的过程源液的量也不好控制，容易造成源液随摆臂甩出的现象。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种晶圆自动涂源装置，无需蘸取动作即可保证毛笔刷头上源液的稳定供给，且避免了摆臂的动作，避免摆臂导致的甩溅等现象。

本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下：晶圆自动涂源装置，包括机架及用于固定晶圆片的晶圆放置盘，晶圆放置盘在工作状态下呈旋转状态，其特征在于，还包括

水平滑轨，与机架固定相连，其方向平行于晶圆片的半径方向；

水平移动支架，与水平滑轨以滑动方式相连；

顶升机构，与水平移动支架固定相连；

毛笔连接架，与顶升机构相连，并能够在顶升机构的带动下上下运动；

执笔夹，与毛笔连接架固定相连；

毛笔，与执笔夹固定相连，其前端为刷头；

试剂瓶，设置在晶圆放置盘的一侧；

及输送管，其与毛笔连接架固定相连，输送管的一端深入试剂瓶内，输送管的另一端伸入毛笔的刷头中并与刷头保持相对固定。

进一步的，晶圆放置盘外部设置有防护罩。

进一步的，试剂瓶放置在一磁力搅拌器上。

进一步的，输送管通过一刚性金属条与毛笔连接架相连。

更进一步的，金属条与毛笔连接架固定相连，金属条的端部延伸至靠近毛笔刷头的位置，输送管与金属条固定相连。

进一步的，所述顶升机构采用顶升气缸，其伸缩端与毛笔连接架固定相连。

本实用新型的有益效果是：

1.本实用新型通过设置的水平滑轨、水平移动支架、顶升机构、毛笔连接架、毛笔、与毛笔刷头相连的输送管以及与输送管相连通的试剂瓶，能够使毛笔的刷头上始终浸有源液，并随水平移动支架的水平运动完成毛笔在晶圆片表面的涂源操作，且无需摆臂结构，有效防止摆臂动作导致的源液甩溅；