[实用新型]一种高导热铝基板蚀刻设备

说明书

本实用新型涉及一种高导热铝基板蚀刻设备。涉及蚀刻设备技术领域。设备主体包括：位于设备主体内部、与壳体螺接、用以进行铝基板输送的输送结构，嵌入所述下壳体的内部、用以进行废液以及废弃基板的回收放置的收集结构，开设于所述输送结构两端、在铝基板输送过程中进行化学喷淋的喷淋结构，与所述喷淋结构沿时刻结构的垂直中心线相对、用以进行后期吹干的风干结构。通过在输送结构内部设置通过安装有调节输送架和定位架，调节输送架能够根据铝基板的厚度进行结构输送厚度的调整，避免输送过程中由于输送间隙过大，造成铝基板堆叠或者出现空转无法输送，同时相对的调节输送架和定位架距离可调，可以根据铝基板的宽度进行调节。

技术领域

本实用新型涉及蚀刻设备技术领域，具体为一种高导热铝基板蚀刻设备。

背景技术

蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，铝基板是一种具有良好散热功能的金属基覆铜板，一般单面板由三层结构所组成，分别是电路层（铜箔）、绝缘层和金属基层。常见于LED照明产品。有正反两面，白色的一面是焊接LED引脚的，另一面呈现铝本色，一般会涂抹导热凝浆后与导热部分接触。还有陶瓷基板等等；

在铝基板蚀刻时，需要对铝基板进行输送，输送的过程中进行化学溶液的喷淋、蚀刻、风干工作，在输送的过程中，由于铝基板的结构形状不固定，因此在输送过程中需要根据尺寸形状进行配合调节；

同时在保障调节性能的同时，化学溶液的喷淋性能以及后期的干燥性能不够全面灵活，因此为了满足上述需求，需要一种高导热铝基板蚀刻设备。

实用新型内容

实用新型目的：提供一种高导热铝基板蚀刻设备，解决输送时根据铝基板结构进行输送调节不便捷的问题。

目的之二在于解决在保障调节性能的同时，化学溶液的喷淋性能以及后期的干燥性能不够全面灵活的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种高导热铝基板蚀刻设备，包括：设备主体；设备主体包括：上壳体，与所述上壳体卡接、与其配合形成一个蚀刻流程工作区的下壳体，位于设备主体内部、与壳体螺接、用以进行铝基板输送的输送结构，嵌入所述下壳体的内部、用以进行废液以及废弃基板的回收放置的收集结构，开设于所述输送结构两端、在铝基板输送过程中进行化学喷淋的喷淋结构，开设于所述输送结构两端、用以进行铝基板蚀刻的蚀刻结构，与所述喷淋结构沿时刻结构的垂直中心线相对、用以进行后期吹干的风干结构。

通过将整体分为上下两个部分，能够根据实际功能需求进行组件位置的调节安装，在出现故障时，可以通过对上壳体进行装卸，以便使得整个流水线更好地暴露在空气中，检修维护性能更加简单全面，通过安装有输送结构对铝基板进行输送工作；同时安装喷淋结构、风干结构、蚀刻结构，能够使得整体的流水线功能更加全面，使用起来更加便捷稳定。

根据本申请实施例的一个方面，所述设备主体还包括：与所述上壳体和下壳体均卡接、用以进行蚀刻工作观察的透明观察罩，开设于所述上壳体和下壳体连接处的两侧、用以进行铝基板放置的工作放置口。

通过安装有透明观察罩，能够在更加直观的对蚀刻工作进行了解，在蚀刻组件出现故障时，第一时间做出反应。

根据本申请实施例的一个方面，所述输送结构包括：设置有两个、用以进行输送组件安装的调节输送架，与所述调节输送架配合、根据铝基板厚度输送需求进行调节、用以保障输送稳定性的定位架，与所述调节输送架传动连接、用以带动调节输送架进行高度调节的线性电机，与上壳体和下壳体螺接、用以提供线性电机滑动定位区的安装固定架，沿调节输送架和定位架依次等距开设、设置有若干个、形成一个线型输送区的转动辊，与所述转动辊粘接、用以增大输送摩擦力、避免输送空转的防滑套。