[实用新型]一种上盖及真空干燥装置

说明书

本实用新型涉及显示面板制造设备技术领域，公开了一种上盖及真空干燥装置。真空干燥装置包括上盖和底座，上盖扣合在底座上，上盖上开设有制程凹槽，当上盖盖设于底座上后围设形成制程腔室，上盖上还开设有压力平衡腔室，压力平衡腔室与制程凹槽至少共用一个壁板，压力平衡腔室与制程腔室保持相同的压力。本实用新型的上盖中制程腔室的壁板不会发生凹陷变形，从而保证制程腔室形状稳定、压力变化均匀，进而保证玻璃基板的良品率，且从根本上杜绝了制程腔室壁板的变形，不需要定期检测和更换，从而能提高生产效率、减少人力需求、降低生产成本。真空干燥装置通过采用上述上盖，良品率高、生产效率高、成本低，人力需求少。

技术领域

本实用新型涉及显示面板制造设备技术领域，尤其涉及一种上盖及真空干燥装置。

背景技术

在显示面板制造过程中，光刻是不可或缺的制程。光刻制程包括在玻璃基板上涂布光阻和对光阻进行真空干燥(Vacuum Drying，VCD)。真空干燥制程是利用真空环境使光阻中的溶剂挥发，使光阻具有一定的硬度。

图1为现有技术提供的真空干燥装置的结构示意图，如图1所示，真空干燥装置包括底座1′、上盖2′及真空泵3′，上盖2′可以盖设在底座1′上，以围成制程腔室4′，制程腔室4′用于容纳涂布有光阻的玻璃基板5′，真空泵3′与制程腔室4′连通。在进行真空干燥制程时，真空泵3′将制程腔室4′由大气压逐渐抽成真空(或接近真空)的状态，最后对制程腔室4′进行释压以完成真空干燥制程。由于外部大气压高于制程腔室4′内的压力，因此大气压会挤压上盖2′并使上盖2′(尤其是表面积较大的侧壁)产生变形，长期使用后上盖2′抗变形能力变差，中部内凹。在真空泵3′逐渐将制程腔室4′抽成真空的过程中，因上盖2′的变形会导致制程腔室4′内不同部位处的压力变化不均匀，从而使不同部位的光阻中溶剂的挥发速度不均匀，进而影响玻璃基板5′的良品率。

现有技术中，为了保证玻璃基板的良品率，通常每间隔一定时间就需要对上盖的形状精度进行检测，当上盖的变形量超过一定范围时，则需要更换新的上盖。定期检测不仅增加了人力需求，还影响生产效率，更换新上盖则会导致玻璃基板的生产成本增加。

因此，亟待需要一种上盖及真空干燥装置来解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型的一个目的在于提出一种上盖，其构成制程腔室的部分不易变形，从而能保证制程腔室内压力变化均匀，提高良品率。

本实用新型的另一个目的在于提出一种真空干燥装置，通过采用上述的上盖，良品率高、生产成本低，且维护过程所需的人力少。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种上盖，用于与真空干燥装置的底座配合，所述上盖上开设有制程凹槽，以使所述上盖盖设于所述底座上后围设形成制程腔室，所述上盖上还开设有压力平衡腔室，所述压力平衡腔室与所述制程凹槽至少共用一个壁板，所述压力平衡腔室与所述制程腔室保持相同的压力。

优选地，所述上盖用于与所述底座配合的表面上设置有定位凹槽，所述定位凹槽环设于所述制程凹槽，所述定位凹槽与所述底座上的密封条凹凸配合。

优选地，所述上盖上开设有第一抽气通道，所述第一抽气通道一端与所述压力平衡腔室相连通，另一端与真空泵连通。

优选地，所述上盖包括横截面为“冖”字型的支撑部，所述支撑部围设形成所述制程凹槽，所述压力平衡腔室设置于所述支撑部上侧，并与所述制程凹槽共用所述支撑部顶部的壁板。

优选地，所述上盖包括横截面为“冖”字型的支撑部，所述支撑部围设形成所述制程凹槽，所述压力平衡腔室包围于所述支撑部，并与所述制程凹槽共用所述支撑部多个壁板。

一种真空干燥装置，包括底座和所述的上盖，所述上盖能够盖设于所述底座上以围设形成制程腔室，所述制程腔室和所述压力平衡腔室内保持相同的压力。