[实用新型]一种上盖及真空干燥装置

权利要求书

1.一种上盖，用于与真空干燥装置的底座(2)配合，其特征在于，所述上盖上开设有制程凹槽(11)，以使所述上盖盖设于所述底座(2)上后围设形成制程腔室(3)，所述上盖上还开设有压力平衡腔室(12)，所述压力平衡腔室(12)与所述制程凹槽(11)至少共用一个壁板，所述压力平衡腔室(12)与所述制程腔室(3)保持相同的压力。

2.如权利要求1所述的上盖，其特征在于，所述上盖用于与所述底座(2)配合的表面上设置有定位凹槽(14)，所述定位凹槽(14)环设于所述制程凹槽(11)，所述定位凹槽(14)与所述底座(2)上的密封条(5)凹凸配合。

3.如权利要求1所述的上盖，其特征在于，所述上盖上开设有第一抽气通道(13)，所述第一抽气通道(13)一端与所述压力平衡腔室(12)相连通，另一端与真空泵(4)连通。

4.如权利要求1-3任一项所述的上盖，其特征在于，所述上盖包括横截面为字型的支撑部(15)，所述支撑部(15)围设形成所述制程凹槽(11)，所述压力平衡腔室(12)设置于所述支撑部(15)上侧，并与所述制程凹槽(11)共用所述支撑部(15)顶部的壁板。

5.如权利要求1-3任一项所述的上盖，其特征在于，所述上盖包括横截面为字型的支撑部(15)，所述支撑部(15)围设形成所述制程凹槽(11)，所述压力平衡腔室(12)包围于所述支撑部(15)，并与所述制程凹槽(11)共用所述支撑部(15)多个壁板。

6.一种真空干燥装置，其特征在于，包括底座(2)和权利要求1-5任一项所述的上盖，所述上盖能够盖设于所述底座(2)上以围设形成制程腔室(3)，所述制程腔室(3)和所述压力平衡腔室(12)内保持相同的压力。

7.如权利要求6所述的真空干燥装置，其特征在于，所述真空干燥装置还包括真空泵(4)，所述真空泵(4)分别对所述制程腔室(3)和所述压力平衡腔室(12)抽真空。

8.如权利要求7所述的真空干燥装置，其特征在于，所述底座(2)上设置有第二抽气通道(21)，所述第二抽气通道(21)的一端与所述制程腔室(3)连通，另一端与所述真空泵(4)连通。

9.如权利要求8所述的真空干燥装置，其特征在于，所述底座(2)上设置有多个第二抽气通道(21)，多个所述第二抽气通道(21)均匀分布于所述底座(2)上与所述制程腔室(3)相对的部位。

10.如权利要求9所述的真空干燥装置，其特征在于，所述底座(2)上设置有密封条(5)，所述密封条(5)夹设在所述上盖与所述底座(2)之间，且环设于所述制程凹槽(11)。