[实用新型]沉积装置

权利要求书

1.一种沉积装置，其特征在于，包括：

沉积腔体，所述沉积腔体具有沉积腔室，所述沉积腔体的顶部设有第一进气口，所述第一进气口与所述沉积腔室连通，用于自所述第一进气口向所述沉积腔室通入工艺气体；

射频电源，所述射频电源用于提供电离产生等离子体所需电能；

阴极模组，所述阴极模组与所述射频电源电连接以激发产生电场，以使自所述第一进气口通入至所述沉积腔室内的工艺气体电离；

光注入模组，所述光注入模组与所述阴极模组均为多个，且两者交替设置于所述沉积腔室的顶部，用于光照促进氢原子扩散；及

载板，所述载板设置于所述沉积腔室内，且位于所述光注入模组与所述阴极模组的下方。

2.根据权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，所述阴极模组包括多个阴极放电板，多个所述阴极放电板间隔设置，相邻两个所述阴极放电板之间形成电离空间，所述电离空间与所述进气口连通，使得自所述进气口通入的所述工艺气体在所述电离空间被电离。

3.根据权利要求2所述的沉积装置，其特征在于，所述阴极模组还包括电离进气腔体，所述电离进气腔体的相对两侧分别为进气面和出气面；所述进气面设有第二进气口，所述第二进气口与所述第一进气口连通；多个所述阴极放电板设于所述出气面，且出气口设于所述出气面的相邻两个所述阴极放电板之间的间隔区域。

4.根据权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，所述光注入模组包括光源发射器；所述光源发射器选自LED光源、激光光源及卤素光源中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，所述沉积腔室为方形，所述沉积腔室沿方形的相邻两边的方向分别为第一方向和第二方向；

所述阴极模组及所述光注入模组在所述沉积腔室的所述第一方向交替排列设置，所述阴极模组及所述光注入模组的长度与所述沉积腔室在所述第二方向的长度相同。

6.根据权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，所述沉积腔室为方形，所述沉积腔室沿方形的相邻两边的方向分别为第一方向和第二方向；

所述阴极模组及所述光注入模组在所述第一方向和所述第二方向依次交替设置，以在所述沉积腔室内呈阵列分布。

7.根据权利要求1至6任一项所述的沉积装置，其特征在于，所述沉积腔室为圆柱体，所述阴极模组及所述光注入模组为圆环形，且各所述阴极模组及所述光注入模组同心设置，所述阴极模组及所述光注入模组在所述沉积腔室内交替设置。

8.根据权利要求1至6任一项所述的沉积装置，其特征在于，所述沉积装置还包括混气盒及分流气盒；

所述混气盒与所述进气口连接，用于将所述工艺气体混合均匀；

所述分流气盒与所述混气盒及所述阴极模组连接，所述分流气盒具有与各所述阴极模组相对应的分流通道，各所述分流通道用于将经所述混气盒混合均匀的所述工艺气体通入各所述阴极模组中。

9.根据权利要求1至6任一项所述的沉积装置，其特征在于，所述沉积腔体的底部设有抽气口，用于排出多余工艺气体。

10.根据权利要求1至6任一项所述的沉积装置，其特征在于，所述沉积腔室的底部还设置有加热板，所述加热板设于所述载板的下方，用于对所述载板加热；

及/或，所述沉积装置还包括腔室门阀；所述腔室门阀设于所述沉积腔体侧面与所述载板水平的位置，用于向所述载板取放硅片；

及/或，所述沉积腔室内还设置有导轨，所述载板设于所述导轨上方且能够相对所述导轨移动。