[实用新型]一种紫外线照射装置

说明书

本实用新型提供了一种紫外线照射装置，用于对晶圆的表面进行照射，包括：灯箱，所述灯箱具有一内腔，且所述灯箱的一面具有贯通所述内腔的通孔；环形灯组，位于所述内腔中，包括至少一个面向所述通孔的紫外灯管，所有所述紫外灯管至少构成一个环形。由于所述环形灯组各处发出的紫外线的强度均匀，使用所述环形灯组对晶圆上的氮化硅膜层进行照射，使所述氮化硅膜层应力具有良好的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种紫外线照射装置。

背景技术

在半导体集成电路制造工艺中常用紫外线对膜层进行处理，例如，采用紫外线照射化学气相沉积形成的氮化硅膜层以进行应力调整、低介电常数材料的性能改善以及干法刻蚀后膜层的损伤修复等。例如：高应力氮化硅沉积设备在晶圆上生成氮化硅膜层后，会通过紫外线照射装置对氮化硅薄膜进行紫外线照射，以改善氮化硅薄膜的应力，形成高应力氮化硅薄层。但现有的紫外线照射装置存在紫外线强度不均匀的问题，会影响氮化硅膜层应力的均匀性，进而影响半导体器件的良率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种紫外线照射装置，提高氮化硅膜层应力的均匀性。

为了达到上述目的，本实用新型提供了一种紫外线照射装置，用于对晶圆的表面进行照射，包括：

灯箱，所述灯箱具有一内腔，且所述灯箱的一面具有贯通所述内腔的通孔；环形灯组，位于所述内腔中，包括至少一个面向所述通孔的紫外灯管，所有所述紫外灯管至少构成一个环形。

可选的，所述紫外线照射装置还包括：

灯罩，所述灯罩可拆卸安装在所述通孔内。

可选的，所述环形灯组包括至少一个环形的所述紫外灯管，当所述紫外灯管具有至少两个时，所有所述紫外灯管构成同心圆环。

可选的，所述紫外线照射装置还包括：

灯架，用于支撑所述紫外灯管。

可选的，所述环形灯组包括至少两个圆弧形的所述紫外灯管，所有所述紫外灯管沿周向均匀分布。

可选的，所述紫外线照射装置还包括：

灯架，用于支撑所述紫外灯管并驱动所有所述紫外灯管同步旋转。

可选的，所述紫外灯管的旋转中心与所述通孔的中心等高。

可选的，每个所述紫外灯管的功率均相同。

可选的，所述紫外线照射装置还包括：

晶圆支撑架，位于所述灯箱外，且设置于所述灯箱具有所述通孔一面的外壁上，且所述晶圆支撑架的上表面低于所述通孔的下边缘。

可选的，所述晶圆具有相对的正面和背面，所述晶圆的正面形成有氮化硅薄膜，所述晶圆的背面放置在所述晶圆支撑架上。

本实用新型提供了一种紫外线照射装置，用于对晶圆的表面进行照射，所述紫外线照射装置包括：灯箱，所述灯箱具有一内腔，且所述灯箱的一面具有贯通所述内腔的通孔；环形灯组，位于所述内腔中，包括至少一个面向所述通孔的紫外灯管，所有所述紫外灯管至少构成一个环形。由于所述环形灯组各处发出的紫外线的强度均匀，使用所述环形灯组对晶圆上的氮化硅膜层进行照射，使所述氮化硅膜层应力具有良好的均匀性。

附图说明

图1为一种紫外线照射装置的结构示意图；

图2为图1所示紫外线照射装置照射后的晶圆上氮化硅膜层的应力分布图像；

图3为本实用新型实施例一提供的一种紫外线照射装置的结构示意图；

图4为本实用新型实施例一提供的一种紫外线照射装置的侧视图；