[实用新型]三氟化氮制备装置有效
申请号: | 202220242912.X | 申请日: | 2022-01-29 |
公开(公告)号: | CN216935973U | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 崔同超;达布力干;郭宏;窦兆丁;吴凯;潘波;马雷 | 申请(专利权)人: | 乌兰察布南大微电子材料有限公司 |
主分类号: | B01J19/08 | 分类号: | B01J19/08;C01B21/083 |
代理公司: | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人: | 张贤 |
地址: | 012000 内蒙古自治区乌兰*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氟化 制备 装置 | ||
本实用新型属于三氟化氮生产设备领域,具体涉及一种三氟化氮制备装置,包括等离子体发生器、等离子体反应器、布袋除尘器、引风机与气体收集罐,等离子体发生器连接等离子体反应器,等离子体反应器的顶部设有顶盖,顶盖上贯穿有四氟化硅进口与氮气进口,等离子体反应器的外侧壁上设有冷凝套,冷凝套上设有冷介质进口与冷介质出口,等离子体反应器的底部设有出料口,出料口上设有出料阀,出料口与布袋除尘器之间连接有输料管,布袋除尘器与引风机之间连接有吸气管,引风机与气体收集罐之间通过排气管连接。本实用新型生产成本较低、安全性较高、副产物较少。
技术领域
本实用新型涉及一种三氟化氮制备装置,属于三氟化氮生产设备领域。
背景技术
三氟化氮化学式为NF3,在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂,广泛应用于高能激光、半导体技术及化学气相沉积等领域,应用前景非常广泛。
目前,三氟化氮的制备方法通常有两种:一种是以NH3与F2为原料制备三氟化氮的化学合成法,由于F2反应性非常高,且有较强的毒性和腐蚀性,因此该方法危险性较大,且反应副产物较多;另一种是以NH4F-xHF为原料的电解槽电解制备法,这种方法生产成本较高。
实用新型内容
根据以上现有技术中的不足,本实用新型要解决的技术问题是:提供一种生产成本较低、安全性较高、副产物较少的三氟化氮制备装置。
本实用新型所述的三氟化氮制备装置,包括等离子体发生器、等离子体反应器、布袋除尘器、引风机与气体收集罐,等离子体发生器连接等离子体反应器,等离子体反应器的顶部设有顶盖,顶盖上贯穿有四氟化硅进口与氮气进口,等离子体反应器的外侧壁上设有冷凝套,冷凝套上设有冷介质进口与冷介质出口,等离子体反应器的底部设有出料口,出料口上设有出料阀,出料口与布袋除尘器的进气口之间连接有输料管,布袋除尘器的出气口与引风机的进气口之间连接有吸气管,引风机的出气口与气体收集罐之间通过排气管连接。
上述的顶盖上设有抽真空口,可对系统进行抽真空,防止空气干扰,有效提高三氟化氮纯度。
上述的冷介质进口位于冷凝套的下端,冷介质出口位于冷凝套的上端,冷却效果更佳。
本实用新型与现有技术相比所具有的有益效果是:
本实用新型所述的三氟化氮制备装置,利用四氟化硅和氮气反应生成氮化硅固体和三氟化氮气体,四氟化硅可来自磷肥生产企业的副产品,便于获取,生产成本较低;而且反应平稳,安全性较高;并且,产物只有氮化硅固体和三氟化氮气体,副产物较少。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中:1、等离子体发生器;2、抽真空口;3、四氟化硅进口;4、氮气进口;5、顶盖;6、冷介质出口;7、等离子体反应器;8、出料阀;9、出料口;10、冷凝套;11、冷介质进口;12、输料管;13、布袋除尘器;14、吸气管;15、引风机;16、排气管;17、气体收集罐。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的实施例做进一步描述:
如图1所示,本实用新型所述的三氟化氮制备装置,包括等离子体发生器1、等离子体反应器7、布袋除尘器13、引风机15与气体收集罐17,等离子体发生器1连接等离子体反应器7,等离子体反应器7的顶部设有顶盖5,顶盖5上贯穿有四氟化硅进口3与氮气进口4,等离子体反应器7的外侧壁上设有冷凝套10,冷凝套10上设有冷介质进口11与冷介质出口6,等离子体反应器7的底部设有出料口9,出料口9上设有出料阀8,出料口9与布袋除尘器13的进气口之间连接有输料管12,布袋除尘器13的出气口与引风机15的进气口之间连接有吸气管14,引风机15的出气口与气体收集罐17之间通过排气管16连接。
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