[实用新型]一种超声波硅片清洗机

说明书

一种超声波硅片清洗机，包括支架，支架上设置多个清洗池及喷淋池，清洗池及喷淋池的进水口与储水箱连接、出水口设置在底部，喷淋池内分布设置多个喷淋头，清洗池及喷淋池的进水口、出水口均设置电磁阀，清洗池底部设置超声波振板，超声波振板与超声波控制箱连接；清洗池内设置托架，托架上放置清洗篮，托架与支架外侧的滑动杆固接，滑动杆上下滑动设置在支架外侧，滑动杆底端设置顶板，顶板下方设置与其匹配的凸轮，凸轮固接在传动轴上，传动轴一端连接有电机；所述电机、电磁阀、超声波控制箱均与支架外侧的电控箱连接。在使用超声波进行振动除杂质的同时，托架带动清洗篮中的硅片上下移动，使得硅片能清洗的更彻底。

技术领域

本实用新型属于硅片清洗技术领域，具体涉及一种超声波硅片清洗机。

背景技术

硅片作为一种常用的半导体材料，加工过程通常包括，先将硅棒进行截断、开方、圆角研磨和平面研磨等机械加工，然后将硅棒进行滚磨、切片、清洗、倒角、研磨和再清洗，最后硅片经过一系列工序制成半导体器件或用于光伏发电的太阳能电池片。对硅片进行清洗的目的是将附着在硅片上的杂质和废屑清洗掉，通常采用将硅片放置在纯水中，并在纯水中启动超声波发生器，以加快杂质和废屑的脱落，现有的超声波硅片清洗机清洗效率低，操作不便，并且不能清洗彻底。

实用新型内容

为解决上述硅片清洗不便、效率低的问题，本实用新型提供一种超声波硅片清洗机。

本实用新型的目的是采用以下技术方案来实现。依据本实用新型提出的一种超声波硅片清洗机，包括支架，支架上设置多个清洗池及喷淋池，清洗池及喷淋池的进水口与储水箱连接、出水口设置在底部，喷淋池内分布设置多个喷淋头，清洗池及喷淋池的进水口、出水口均设置电磁阀，清洗池底部设置超声波振板，超声波振板与超声波控制箱连接；清洗池内设置托架，托架上放置清洗篮，托架与支架外侧的滑动杆固接，滑动杆上下滑动设置在支架外侧，滑动杆底端设置顶板，顶板下方设置与其匹配的凸轮，凸轮固接在传动轴上，传动轴一端连接有电机；所述电机、电磁阀、超声波控制箱均与支架外侧的电控箱连接。

进一步的，所述支架通过其底面设置的支脚支撑设置在基础面上。

进一步的，所述超声波振板通过支腿支撑在清洗池底部。

进一步的，所述滑动杆穿设并滑动设置在支架外侧固定的滑动导套上。

进一步的，所述储水箱与清洗池、喷淋池通过总管道及分支管道连接，分支管道与清洗池、喷淋池一一对应，总管道及分支管道上均设置电磁阀。

进一步的，所述清洗池及喷淋池一字排开，喷淋池设置一个且位于中间位置。

进一步的，位于所述喷淋池同一侧的清洗池的托架与同一根横杆连接，横杆的延伸方向与清洗池的分布方向平行，横杆与多根滑动杆连接。

进一步的，位于所述喷淋池同一侧的滑动杆所匹配的凸轮均设置在同一根传动轴上。

进一步的，所述清洗池内设置刻度，所述清洗篮上下移动时始终位于清洗池的水面下，清洗篮上的把手始终位于水面上。

进一步的，所述喷淋池靠近底部的侧壁设置回收管，回收管通过管道与支架外侧设置的喷淋箱连接，喷淋箱的底部设置出水口，并通过管道与喷淋头连接，喷淋箱的出水口与喷淋头之间设置泵；喷淋箱内设置水位传感器。

与现有技术相比，该实用新型的有益之处在于：在使用超声波进行振动除杂质的同时，托架带动清洗篮中的硅片上下移动，使得硅片能清洗的更彻底；在清洗的同时，可以随时取出或放入清洗篮，操作方便；在对硅片清洗时，可以先对硅片进行预清洗，防止过大的杂质进入清洗池，影响超声波的清洗效果，避免频繁换水，节约资源。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。