[实用新型]承载装置有效

专利信息
申请号: 202220122914.5 申请日: 2022-01-17
公开(公告)号: CN217214678U 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 张龙;方一;陈鲁;张嵩 申请(专利权)人: 深圳中科飞测科技股份有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 陈文斌
地址: 518000 广东省深圳市龙华区大浪街*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 承载 装置
【说明书】:

实用新型公开一种承载装置,所述承载装置用于承载晶圆,承载装置包括承载主体和定位件,定位件安装于承载主体,承载主体设有吸附通道和吸附孔,吸附通道贯穿承载主体内部设置并与吸附孔相通,述承载主体表面设有保护膜层。本实用新型技术方案通过抽取吸附通道内的空气的方式,使晶圆吸附在承载主体上,并在承载主体表面铺设一层保护膜层,以防止承载主体的材料挥发成金属离子,减少污染晶圆的现象出现,从而保障了晶圆的检测精准度。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件技术领域,特别涉及一种承载装置。

背景技术

晶圆在生产、检测过程中,通常需要承载装置对晶圆进行承载,从而方便放置晶圆。当在晶圆表面进行检测时,由于检测设备通常采用非接触的方式进行检测,并且通常采用激光作为光源,对晶圆的表面进行照射,容易使承载装置的表面材料产生逸散,从而造成对晶圆表面的污染,影响对晶圆的检测结果。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种承载装置,旨在解决承载装置的表面材料产生逸散、影响晶圆检测结果的问题。

为实现上述目的,本实用新型提出的承载装置,所述承载装置用于承载晶圆,所述承载装置包括承载主体和定位件,所述定位件安装于所述承载主体,所述承载主体设有吸附通道和吸附孔,所述吸附通道贯穿所述承载主体内部设置并与所述吸附孔相通,所述承载主体表面设有保护膜层。

可选地,所述保护膜层为类金刚石膜或致密氧化铝膜层。

可选地,多个所述吸附通道相互交叉连通。

可选地,所述承载主体的底部设有供所述定位件插接的安装孔,所述安装孔位于所述承载主体圆心处,并连通多个所述吸附通道。

可选地,所述承载主体包括内底面和内侧壁,所述定位件设有台阶部和凸台部,所述台阶部与所述凸台部固定连接,所述台阶部与所述内侧壁相抵接,所述凸台部与所述内底面具有间隙,以连通多个所述吸附通道。

可选地,所述承载主体设有多个穿孔,多个所述穿孔与所述吸附通道错开设置,多个所述穿孔呈环形分布。

可选地,所述定位件设有定位孔,所述定位孔与所述间隙、多个所述吸附通道连通。

可选地,所述承载主体的底部设有多个限位凹槽,多个所述限位凹槽以所述吸附通道为对称轴对称设置。

可选地,所述承载主体上均匀分布有多个凸点,多个所述凸点呈环形分布。

可选地,所述承载装置的材质为氧化铝陶瓷。

本实用新型的承载装置用于承载晶圆,承载装置包括承载主体和定位件,定位件安装于承载主体,承载主体设有吸附通道和吸附孔,吸附通道贯穿承载主体内部设置并与吸附孔相通,述承载主体表面设有保护膜层。本实用新型技术方案通过抽取吸附通道内的空气的方式,使晶圆吸附在承载主体上,并在承载主体表面铺设一层保护膜层,以防止承载主体的材料挥发成金属离子,减少污染晶圆的现象出现,从而保障了晶圆的检测精准度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型承载装置一实施例的结构示意图;

图2为本实用新型承载装置一实施例剖视图;

图3为图2中A处的局部放大图;

图4为本实用新型承载装置在另一视角下一实施例的结构示意图。

附图标号说明:

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