[实用新型]热阻式蒸镀装置及蒸镀设备

权利要求书

1.一种热阻式蒸镀装置，其特征在于，包括：

蒸镀容器；

支撑腔，密封包覆于所述蒸镀容器外部；

喷嘴组件，包括多个喷嘴，设置于所述支撑腔的顶壁，并与所述支撑腔连通；

栅格板，固定于所述支撑腔内，且位于所述蒸镀容器与喷嘴组件之间，所述栅格板与支撑腔的内侧壁密封连接；以及

镀锅，位于所述喷嘴组件上方，并能够绕自身轴线旋转。

2.如权利要求1所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述栅格板上设置有多个镂空结构，且各个所述镂空结构均匀布置，各个所述镂空结构的尺寸相同。

3.如权利要求1所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述栅格板沿平行于所述喷嘴组件的方向设置，且所述栅格板在平行于所述喷嘴组件所在平面内的形状与所述支撑腔的截面形状一致。

4.如权利要求3所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述支撑腔的形状为圆柱形，所述栅格板的形状为圆盘形。

5.如权利要求1所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，多个所述喷嘴在所述支撑腔的顶壁上均匀布置，且多个所述喷嘴等高。

6.如权利要求1所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述栅格板及喷嘴采用耐高温材料。

7.如权利要求1所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述喷嘴组件的总体喷射范围覆盖所述镀锅的外缘。

8.如权利要求1所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述镀锅的自身轴线垂直于所述支撑腔顶壁所在平面，且所述镀锅的自身轴线对应于所述蒸镀容器的中部。

9.如权利要求1所述的热阻式蒸镀装置，其特征在于，所述镀锅的内壁上设置有多个用于承载基片的承载位。

10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：蒸镀腔室以及如权利要求1-9中任一项所述的热阻式蒸镀装置，所述热阻式蒸镀装置设置于所述蒸镀腔室中。