[发明专利]一种钼旋转管靶制备工艺

权利要求书

1.一种钼旋转管靶制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：

S1、原料筛分：外购的原料进行通过振动筛进行筛分，从而获得超细粉末作为原料；

S2、粉料混合：将不同批次的钼粉放入到混料机中进行混合，混料时间60～90min，使不同批次的钼粉充分混合；

S3、冷等静压成型：将混合后的钼粉称量装入胶套内部并抽真空，将胶套放入冷等静压机内部，在200MPa～300MPa压力下冷等静压成型，并制得第一次管坯；

S4、烧结：将成型的坯料放置在中频感应烧结炉中，烧结炉加热工作温度1300～1400℃，烧结时间为4～6小时，并制得第二次管坯；

S5、管坯加热：烧结出的空心管坯在工频感应烧结炉中加热至1300℃～1400℃后，并保温3～4小时；

S6、挤压：将保温的空心管坯料送至卧式挤压机进行挤压，用来提高管材的密度、细化其精度，并制得第三次管坯；

S7、退火：将挤压后的管坯放入退火炉进行退火，退火炉温度800℃～900℃，退火时间90～120min；

S8、精整矫直：采用回转矫直机对管坯进行矫直，并制得第四次管坯；

S9、探伤：采用超声波探伤仪对矫直后的钼靶管材进行检验；

S10、机加工：将检测合格的第四次管材通过机加工加工为成品管材，并通过真空包装机进行包装。

2.根据权利要求1所述的钼旋转管靶制备工艺，其特征在于：S1中，振动筛选用200目筛网进行筛选。

3.根据权利要求1所述的钼旋转管靶制备工艺，其特征在于：S4中，中频感应烧结炉的温度均匀性≤±10℃。

4.根据权利要求1所述的钼旋转管靶制备工艺，其特征在于：S4中，放入管坯后，将烧结炉抽真空，并在烧结炉中填充氢气作为保护气体，氢气纯度≥99.99%，烧结炉内部压力保持在1～5 kPa，氢气供应采用外购气瓶组方式。

5.根据权利要求1所述的钼旋转管靶制备工艺，其特征在于：S6中，挤压机的进料最大规格Φ290/Φ150×650mm，成品规格Φ160/Φ130×500～3500mm，且挤压机最大挤压力28MN。

6.根据权利要求1所述的钼旋转管靶制备工艺，其特征在于：S7中，退火炉中填充有保护气体，且保护气体为氢气，用以避免钼管坯氧化。

7.根据权利要求1所述的钼旋转管靶制备工艺，其特征在于：在管坯加热、退火系统生产过程中，以及挤压机的进料辊道和出料台部位设置收集MoO3粉尘的排烟罩、收尘罩，并将排烟罩、收尘罩通过管道与布袋除尘器连接。