[发明专利]一种图案化的氧化锰阵列的制备方法及其应用在审
| 申请号： | 202211555103.5 | 申请日： | 2022-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN115974159A | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 王学文;麦博 | 申请（专利权）人： | 佛山仙湖实验室 |
| 主分类号： | C01G45/02 | 分类号： | C01G45/02 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 尹凡华 |
| 地址： | 528200 广东省佛山市南海区丹灶镇*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 图案 氧化锰 阵列 制备 方法 及其 应用 | ||
1.一种氧化锰阵列的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)在上下两块玻璃基板中加入高锰酸钾水溶液，形成夹层；
(2)调节激光，使激光聚焦至上玻璃基板与高锰酸钾水溶液的交界处，调节激光的功率为不超过100mW，且激光的波长为500-515nm，脉宽为200-260fs；
(3)移动激光，即制得所述氧化锰阵列。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，对所述玻璃基板先使用超声清洗，然后用UV光清洗。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述玻璃基板为SiO2玻璃基板。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述高锰酸钾水溶液的浓度为0.05-0.5mol/L。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述夹层中，所述高锰酸钾水溶液形成的液体层的厚度为2-30μm。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述激光的功率为20-50mW。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述激光的重复频率为100-200KHz。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述氧化锰阵列由氧化锰纳米线组成，所述氧化锰纳米线的直径为100nm-10μm。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中是在空气、氮气或真空条件下进行。
10.权利要求1-9任一项所述的制备方法在制备储能器件、光电器件或气敏器件中的应用。
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