[发明专利]边缘位置检测方法及装置在审

专利信息
申请号: 202211537035.X 申请日: 2022-12-02
公开(公告)号: CN115937235A 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 徐健;刘耀阳 申请(专利权)人: 上海精积微半导体技术有限公司
主分类号: G06T7/13 分类号: G06T7/13;G06T7/40
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 吴浩
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 边缘 位置 检测 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种边缘位置检测方法,其特征在于,包括:

S1、获取目标区域,所述目标区域包含至少两种结构图像和边缘位置,所述边缘位置为不同的结构图像之间的边界线,且所述边缘位置的至少一侧为周期性结构的图像,所述周期性结构包括若干重复排列的周期单元;

S2、选定所述结构图像中的至少一种周期性结构图像为目标结构图像,并确定所述目标结构图像中的周期性结构呈周期性变化的方向;

S3、在所述目标区域内沿着所述周期性变化的方向上,依次选取若干周期图像,所述周期图像包括所述目标结构图像中的至少一个周期单元;

S4、在所述目标结构图像中选取第一对比图像,所述第一对比图像在沿所述周期性变化的方向上的长度大于所述周期图像在沿着所述周期性变化的方向上的长度;

S5、对所述第一对比图像进行插值处理,以获取与所述周期图像相位和尺寸均一致的第二对比图像;

S6、获取所述周期图像与相对应的所述第二对比图像的归一化互相关结果;

S7、根据所述归一化互相关结果获取所述边缘位置。

2.根据权利要求1所述的边缘位置检测方法,其特征在于,在所述S3中,在所述目标结构图像内选取第一初始位置;

沿着所述周期性变化的方向、从所述第一初始位置开始,每隔第一预设长度依次选取若干周期图像,所述第一预设长度小于或等于所述周期图像在沿着所述周期性变化的方向上的长度。

3.根据权利要求2所述的边缘检测方法,其特征在于,在所述S4中,通过对所述周期图像在沿着所述周期性变化的方向上的长度的数值向上取整再加1,得到所述第一对比图像在沿所述周期性变化的方向上的长度。

4.根据权利要求3所述的边缘检测方法,其特征在于,在所述S6中,所述周期图像与相对应的所述第二对比图像的归一化互相关结果通过如下公式获取:其中,γ为所述周期图像与相对应的所述第二对比图像的归一化互相关处理后结果,f(x,y)为所述周期图像在任一坐标位置处的像素值,为所述周期图像的全部像素值的平均值,t(x,y)为所述第二对比图像在相应坐标位置处的像素值,为所述第二对比图像的全部像素值的平均值。

5.根据权利要求4所述的边缘检测方法,其特征在于,在所述S7中,将满足预设条件的所述归一化互相关结果所对应在所述目标区域的位置即为所述边缘位置。

6.根据权利要求5所述的边缘检测方法,其特征在于,当在所述目标区域内的相邻位置处所对应的所述归一化互相关结果由接近1骤降为远离1时,所述远离1的所述归一化互相关结果满足所述预设条件,所述接近1包括所述归一化互相关结果的取值为0.8~1,所述远离1包括所述归一化互相关结果的取值为0~0.3或0以下。

7.根据权利要求1所述的边缘检测方法,其特征在于,在执行所述S6之前,还包括:

当所述目标结构图像呈周期性变化的方向只有一个时,对所述目标区域进行降维处理;

沿着垂直于所述周期性变化的方向将所述目标区域均分为N等份,并获取每一等份的灰度平均值,所述N等于所述目标区域沿着所述周期性变化的方向上的像素的数目。

8.根据权利要求7所述的边缘检测方法,其特征在于,在所述S6中,所述周期图像与相对应的所述第二对比图像的归一化互相关结果通过如下公式获取:其中,γ为所述周期图像与相对应的所述第二对比图像的归一化互相关结果,f(a)为所述周期图像在任一等份处的灰度平均值,为所述周期图像的灰度平均值,t(a)为所述第二对比图像在相应等份处的灰度平均值,为所述第二对比图像的灰度平均值。

9.一种边缘位置检测装置,其特征在于,用于执行如权利要求1~8中任一项所述的边缘位置检测方法,包括:获取模块、插值处理模块、归一化处理模块以及边缘位置获取模块;所述获取模块包括第一获取单元、第二获取单元、第三获取单元和第四获取单元;

所述第一获取单元用于获取目标区域,所述目标区域包含至少两种结构图像和边缘位置,所述边缘位置为不同的结构图像之间的边界线,且所述边缘位置的至少一侧为周期性结构的图像,所述周期性结构包括若干重复排列的周期单元;

所述第二获取单元用于选定所述结构图像中的至少一种周期性结构图像为目标结构图像,并确定所述目标结构图像中的周期性结构呈周期性变化的方向;

所述第三获取单元用于在所述目标区域内沿着所述周期性变化的方向上,依次选取若干周期图像,所述周期图像包括所述目标结构图像中的至少一个周期单元;

所述第四获取单元用于在所述目标结构图像中选取第一对比图像,所述第一对比图像在沿所述周期性变化的方向上的长度大于所述周期图像在沿着所述周期性变化的方向上的长度;

所述插值处理模块用于对所述第一对比图像进行插值处理,以获取与所述周期图像相位和尺寸均一致的第二对比图像;

所述归一化处理模块用于获取所述周期图像与相对应的所述第二对比图像的归一化互相关结果;

所述用于边缘位置获取模块用于根据所述归一化互相关结果获取所述边缘位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海精积微半导体技术有限公司,未经上海精积微半导体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211537035.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top