[发明专利]机载干涉合成孔径雷达DOM生成方法、装置及存储介质在审
| 申请号: | 202211526477.4 | 申请日: | 2022-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN115932849A | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
| 发明(设计)人: | 张斌;冯亮;韦立登;李爽;谢富泰;王柳柳 | 申请(专利权)人: | 北京无线电测量研究所 |
| 主分类号: | G01S13/90 | 分类号: | G01S13/90 |
| 代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 孟仕杰 |
| 地址: | 100854 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 机载 干涉 合成孔径雷达 dom 生成 方法 装置 存储 介质 | ||
本发明公开了一种机载干涉合成孔径雷达DOM生成方法、装置及存储介质,包括:确定当前斜距成像数据块的飞行和处理参数;根据飞行和处理参数、DEM数据确定当前斜距成像数据块的地面覆盖范围;根据当前斜距成像数据块成像时的分辨率对DEM数据进行插值操作;根据地面覆盖范围内插值后的DEM数据逐点求取DEM点位在当前斜距成像数据块的位置;根据DEM点位在当前斜距成像数据块的位置,逐点插值求取DEM点位对应的图像灰度值,得到最终的DOM影像。本发明提供的机载干涉合成孔径雷达DOM反演方法,提高了DOM数据的连续性和有效性。
技术领域
本发明涉及机载干涉合成孔径雷达遥感及测绘技术领域,尤其涉及一种机载干涉合成孔径雷达DOM生成方法、装置及存储介质。
背景技术
DOM(数字正射影像图,Digital Orthophoto Map)是机载干涉合成孔径雷达遥感测绘的产品之一,DOM可通过机载干涉合成孔径雷达地理编码步骤获取,其利用高程反演后的斜距DSM(数字地表模型图,Digital Surface Model)数据和几何关系直接投影获得DOM,但直接利用高程反演后的斜距DSM由于水域、阴影、叠掩等问题存在,导致该区域的高程值出现异常,此时的DOM图像易出现拉花、错位等明显错误;同时由于噪声的存在,斜距DSM易出现高程不连续区域,DOM数据出现错位等明显问题,严重影响DOM的质量。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术存在的问题,提供一种机载干涉合成孔径雷达DOM生成方法、装置及存储介质。
为解决上述技术问题,本发明提供一种机载干涉合成孔径雷达DOM生成方法,其征在于,包括:确定当前斜距成像数据块的飞行和处理参数;
根据飞行和处理参数、DEM数据确定当前斜距成像数据块的地面覆盖范围;根据当前斜距成像数据块成像时的分辨率对DEM数据进行插值操作;根据地面覆盖范围内插值后的DEM数据逐点求取DEM点位在当前斜距成像数据块的位置;根据DEM点位在当前斜距成像数据块的位置,逐点插值求取DEM点位对应的图像灰度值,得到最终的DOM影像。
为解决上述技术问题,本发明还提供一种机载干涉合成孔径雷达DOM生成装置,包括:参数获取模块,用于确定当前斜距成像数据块的飞行和处理参数;覆盖范围确定模块,用于根据飞行和处理参数、DEM数据确定当前斜距成像数据块的地面覆盖范围;插值处理模块,用于根据当前斜距成像数据块成像时的分辨率对DEM数据进行插值操作;DEM点位位置确定模块,用于根据地面覆盖范围内插值后的DEM数据逐点求取DEM点位在当前斜距成像数据块的位置;DOM影像生成模块,用于根据DEM点位在当前斜距成像数据块的位置,逐点插值求取DEM点位对应的图像灰度值,得到最终的DOM影像。
为解决上述技术问题,本发明还提供一种机载干涉合成孔径雷达DOM生成装置,包括存储器、处理器及存储在存储器上的并可在处理器上运行的计算机程序,处理器执行程序时实现上述技术方案提供的机载干涉合成孔径雷达DOM生成方法。
为解决上述技术问题,本发明还提供一种计算机可读存储介质,包括指令,当指令在计算机上运行时,使计算机执行根据上述技术方案提供的机载干涉合成孔径雷达DOM生成方法。
本发明的有益效果是:通过飞行和处理参数、DEM(数字高程模型图,DigitalElevation Model)数据确定当前斜距成像数据块的地面覆盖范围,根据地面覆盖范围内插值后的DEM数据逐点求取DEM点位在当前斜距成像数据块的位置,利用当前斜距成像数据块该点点位附近的SAR图像进行插值求取该DEM点位对应的DOM像素值,从而得到整幅图像的DOM结果。本发明利用DEM数据、飞行和处理参数通过几何关系反投影及误差参数校正的方式获得对应数据块的DOM数据,可规避因斜距DSM区域异常、高程不连续等导致的DOM区域异常问题,有效提高DOM数据质量。
本发明附加的方面及其优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明实践了解到。
附图说明
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京无线电测量研究所,未经北京无线电测量研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211526477.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





