[发明专利]一种光催化的恩/达格列净前体及其合成方法在审
申请号: | 202211492881.4 | 申请日: | 2022-11-25 |
公开(公告)号: | CN115785045A | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 张和;李晓晖;张志海;陶舟;徐金喜 | 申请(专利权)人: | 湖北省宏源药业科技股份有限公司 |
主分类号: | C07D309/10 | 分类号: | C07D309/10;C07D407/12 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 李丹 |
地址: | 438600 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光催化 达格列净前体 及其 合成 方法 | ||
本发明公开了一种光催化的恩/达格列净前体及其合成方法,包括以下步骤:1)将溴代芳烃底物I、溴代葡萄糖底物II、[Ir]光催化剂、[Ni]金属催化剂、还原剂、添加剂和极性溶剂混合后,在室温,光照,氮气氛围下反应,得到恩/达格列净的中间体III;2)步骤1)所述中间体III进一步的脱去保护基,再通过柱层析或者重结晶纯化后,得到成品恩/达格列净;本发明方法操作简单,室温即可反应,具有操作简单,产率高,立体选择性好等优点,且克级实验证明了其存在大量制备的潜力。
技术领域
本发明属于药物化学领域,涉及一种光催化的恩/达格列净的中间体,同时,还涉及该中间体的合成方法。
技术背景
碳-芳基糖苷类SGLT-2抑制剂是一类新型抗糖尿病药物,其作用机制为通过抑制肾脏对葡萄糖的重吸收,使得过量的葡萄糖从尿液中排除,直接降血糖。这类药物不仅能够起到控制血糖水平的作用,在最新的研究中发现,SGLT-2抑制剂适应于成人心衰患者,降低心血管死亡和心衰恶化的风险,并改善心衰症状,目前恩/达格列净均已经获得美国FDA的批准降低成人HFrEF患者的心血管死亡和心衰住院风险,无论患者伴或不伴糖尿病。
目前报道的碳-芳基糖苷类SGLT-2抑制剂的合成方法主要有两类:1.以溴/碘代芳烃为原料,制备相应的有机金属试剂(芳基锂/镁试剂),进一步的和葡萄糖酸内酯衍生物反应,构架药物分子骨架,随后通过脱保护基,甲基化,还原得到目标产物(US20060258749A1、WO2011039107A1);2.以碘代芳烃为原料,制备相应的有机金属试剂,进一步的和溴代葡萄糖衍生物反应,随后脱保护得到目标产物(CN105399735A,CN106905305A,石克金等.恩格列净合成工艺改进.中国医药工业杂志49.8(2018):4,D.Yi,et al,Org.Lett.2018,20,7,1936–1940)。两种路线中,均涉及到将卤代芳烃制备为相应的有机金属试剂这一步骤,对反应温度,氧气,水分含量要求高。前者路线步骤繁琐,收率较低,整体效率较低,但是路线成熟,目前已被大规模应用于生产。后者为改进路线,具有步骤少的优势,但是原料仅限于碘代物,路线成本依旧很高,因此有待进一步改进。
光催化的还原偶联反应能直接实现两个亲电试剂之间的交叉偶联,从而构建碳碳键,反应条件温和,选择性好。但是目前的研究主要集中在理论研究部分,实际应用较少。2016年MacMillan和雷爱文教授先后报道了光催化的还原偶联反应,实现了溴代芳烃和溴代烷烃之间的还原偶联反应,但是其底物范围存在一定的局限,官能团兼容性较差,对于氨基,羟基不能很好的兼容。故难以将其进一步的应用到药物合成当中(P.Zhang,et al,J.Am.Chem.Soc.2016,138,8084-8087;Z.L.Duan,et al,Org.Lett.2016,18,4012-4015)。基于此反应机理,本发明发展了恩/达格列净的光催化还原偶联合成法,步骤简单、成本低、原子经济性高、适宜于工业化生产。
发明内容
针对现有方法的不足,本发明的目的在于提供了一种光催化的恩/达格列净前体及其合成方法,具有反应条件温和,操作简单,产率高,立体选择性好,副产物少,原料稳定易存储(没有使用活性较高的有机金属试剂),反应易于调控(无光照即反应停止),可大量制备等优点。
为了实现上述目的,本发明用以下技术措施:一种光催化的恩/达格列净前体的合成方法,包括如下步骤:
1)将溴代芳烃底物I、溴代葡萄糖底物II、[Ir]光催化剂、[Ni]金属催化剂、还原剂、添加剂和极性溶剂混合后;在室温,光照,氮气氛围下反应,得到恩/达格列净的中间体III;TLC监控反应进程,溴代芳烃底物I耗完毕即可停止反应,反应完成后,无需后处理,直接下一步反应;
2)中间体III在一定条件下脱去保护基,得到目标产物,随后柱层析分离纯化即可得到目标产物Ⅳ。(R2为乙酰基或特戊酰基时,反应条件为:NaOH,LiOH,KOH;R2为三甲基硅基时,反应条件为:柠檬酸,稀盐酸。R2优选为三甲基硅基保护基);
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