[发明专利]聚硅氧系粘着保护膜及包括其的光学元件

说明书

公开一种聚硅氧系粘着保护膜及包括其的光学元件。所述聚硅氧系粘着保护膜由包含含烯基的有机聚硅氧烷、有机聚硅氧烷树脂、硅氧烷系离子化合物、交联剂及氢化硅烷化触媒的组成物形成，其中所述有机聚硅氧烷树脂包括包含R¹R²R³SiO_1/2单元(R¹、R²及R³各自独立地为C₁至C₆烷基)及SiO_4/2单元的有机聚硅氧烷树脂。

本发明是2020年4月22日所提出的申请号为202080030487.1、发明名称为《聚硅氧系粘着保护膜及包括其的光学元件》的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种聚硅氧系粘着保护膜及包括其的光学元件。

背景技术

光学显示器的使用、存储及制造环境变得越来越苛刻。此外，对例如可穿戴装置、可折叠装置等的新的光学显示器的兴趣亦在增加。结果，用于保护光学显示器的面板的粘着保护膜需要具有各种性质。特别地，随着具有紧凑结构及高可挠性的面板的发展，需要开发一种即使在苛刻条件下在移除粘着保护膜时亦使得对面板的损坏更小且其性质变化更小的粘着保护膜。

因此，此项技术中已经开发了丙烯酸酯或胺基甲酸酯丙烯酸酯系粘着保护膜。然而，当贴附至被粘物的丙烯酸酯或胺基甲酸酯丙烯酸酯系粘着保护膜长时间置留时，粘着保护膜对被粘物的剥离强度会过度增加，从而在自被粘物移除粘着保护膜时导致被粘物的损坏和/或变形，同时由于难以移除保护膜而使可处理性劣化。

在韩国专利公开案第2012-0050136号等中公开了本发明的背景技术。

发明内容

技术挑战

本发明的一个目的是提供一种提供对被粘物的良好保护，良好的可润湿性及良好的台阶嵌入性质的聚硅氧系粘着保护膜。

本发明的另一目的是提供一种随时间推移具有低剥离强度增加率的聚硅氧系粘着保护膜。

本发明的进一步的目的是提供一种表现出低残余剥离强度降低率及良好的残余性质，以防止当自被粘物剥离时污染及损坏被粘物的聚硅氧系粘着保护膜。

本发明的再一目的是提供一种具有良好抗静电性质的聚硅氧系粘着保护膜。

解决问题的方法

本发明的一个实施例是有关于一种聚硅氧系粘着保护膜。

所述聚硅氧系粘着保护膜由包含含烯基的有机聚硅氧烷、有机聚硅氧烷树脂、硅氧烷系离子化合物、交联剂及氢化硅烷化触媒的组成物形成，其中所述有机聚硅氧烷树脂包括包含R¹R²R³SiO_1/2单元(R¹、R²及R³各自独立地为C₁至C₆烷基)及SiO_4/2单元的有机聚硅氧烷树脂。

所述聚硅氧系粘着保护膜可相对于被粘物具有约3克力/25毫米或小于约3克力/25毫米的剥离强度。

所述聚硅氧系粘着保护膜可具有由方程式1计算的约50％或小于约50％的剥离强度增加率：

[方程式1]

剥离强度增加率＝(P2-P1)/P1×100，

其中P1表示在所述聚硅氧系粘着保护膜及被粘物的样品中所述聚硅氧系粘着保护膜相对于所述被粘物的初始剥离强度(单位：克力/25毫米)；且

P2表示在所述样品在50℃下置留3天后测量的所述样品的所述聚硅氧系粘着保护膜相对于所述被粘物的剥离强度(单位：克力/25毫米)。