[发明专利]反射率测定装置、成膜装置

说明书

本发明涉及反射率测定装置、成膜装置。用于防止反射率的测定精度降低。反射率测定装置具备：光源；投受光头，所述投受光头具备投光部、反射光输入部及修正光输入部，所述投光部向被测定物照射被输入到投受光头的来自光源的光所包含的第一光和第二光中的第一光，所述反射光输入部将第一光由被测定物反射后的反射光输入到第一线材，所述修正光输入部将第二光不照射到被测定物而输入到第二线材；测定构件，所述测定构件对经由第一线材传送的第三光的强度和经由第二线材传送的第四光的强度进行测定；以及确定构件，所述确定构件基于由测定构件测出的第三光的强度和第四光的强度来确定被测定物的反射率。

技术领域

本发明涉及用于测量蒸镀在玻璃基板上的有机材料的膜厚的反射率测定装置以及成膜装置。

背景技术

在专利文献1中公开了对形成在基板上的半导体膜进行测定的膜厚测定装置。在专利文献1中，公开了将从测定光源照射的来自光源的光作为参考进行测定。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-063321号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，由于从测定光源到分光检测部之间的光纤的弯曲等，传送的光的损失发生变化，存在反射率的测定精度降低的课题。

鉴于上述课题，本发明的目的在于提供一种用于防止反射率的测定精度降低的技术。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题，本发明的反射率测定装置具备：

光源；

投受光头，所述投受光头具备投光部、反射光输入部及修正光输入部，所述投光部向被测定物照射被输入到所述投受光头的来自光源的光所包含的第一光和第二光中的所述第一光，所述反射光输入部将所述第一光被所述被测定物反射后的反射光输入到第一线材，所述修正光输入部将所述第二光不照射到所述被测定物而输入到第二线材；

测定构件，所述测定构件对经由所述第一线材传送的第三光的强度和经由所述第二线材传送的第四光的强度进行测定；以及

确定构件，所述确定构件基于由所述测定构件测出的所述第三光的强度和所述第四光的强度来确定所述被测定物的反射率。

另外，根据本发明的另一方面，本发明的成膜装置具备：

成膜室，所述成膜室设置有对基板进行成膜的成膜单元；

输送构件，所述输送构件一边将基板保持在下侧，一边在基板的成膜位置与基板的接收位置之间输送基板；以及

反射率测定装置，所述反射率测定装置用于测定在保持于输送构件的基板上形成的膜的反射率，

所述反射率测定装置具备：

光源；

投受光头，所述投受光头具备投光部、反射光输入部及修正光输入部，所述投光部向被测定物照射被输入到所述投受光头的来自光源的光所包含的第一光和第二光中的所述第一光，所述反射光输入部将所述第一光被所述被测定物反射后的反射光输入到第一线材，所述修正光输入部将所述第二光不照射到所述被测定物而输入到第二线材；

测定构件，所述测定构件对经由所述第一线材传送的第三光的强度和经由所述第二线材传送的第四光的强度进行测定；以及

确定构件，所述确定构件基于由所述测定构件测出的所述第三光的强度和所述第四光的强度来确定所述被测定物的反射率。

发明效果

由此，能够提供用于防止反射率的测定精度降低的技术。

附图说明