[发明专利]一种双向可控硅器件在审
申请号: | 202211297579.3 | 申请日: | 2022-10-22 |
公开(公告)号: | CN115602682A | 公开(公告)日: | 2023-01-13 |
发明(设计)人: | 李凡阳;韩嘉迅 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 郭东亮;蔡学俊 |
地址: | 362251 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 双向 可控硅 器件 | ||
1.一种双向可控硅器件,为RC电路触发的双向SCR器件,其特征在于:所述可控硅器件包括由外接的RC耦合电路,反相器和PMOS组成的RC耦合辅助触发路径,还包括由环形PMOS提供的第一放电路径,以及由PNPN结构组成的SCR大电流泄放路径,所述外接的RC耦合电路通过自偏置方式提供用于触发器件ESD保护动作的ESD信号电压。
2.根据权利要求1所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述可控硅器件在制备时,以BCD工艺在其衬底p-sub(114)处设置深N阱DNW(113),并在深N阱中设置第一P阱(110)、第一N阱(111)、第二P阱(112);
第一P阱中设有第一P+注入区(101)、第一N+注入区(102);第一N阱中设有连接第一P阱与第一N阱的第二P+注入区(103);
第二N+注入区(105)分布于第一N阱(111)中央对称轴位置,且被第三环形P+注入区(104)环绕;
第四P+注入区(106)连接着第一N阱与第二P阱,并以第一N阱(111)中央对称轴与第二P+注入区对称;
第三N+注入区(107)位于第二P阱中,并以第一N阱(111)中央对称轴与第一N+注入区(102)对称;
第五P+注入区(108)位于第二P阱中,并以第一N阱(111)中央对称轴与第一P+注入区(101)对称;
第一N阱(111)中,左侧多晶硅栅(115)与左侧薄栅氧(117)连接第二P+注入区(103)与第三环形P+注入区(104),右侧多晶硅栅(116)与右侧薄栅氧(118)连接第三环形P+注入区(104)与第四P+注入区(106);第二N+注入区(105)连接外部RC耦合电路(212)的电容(119),该电容(119)连接第一电阻(124)、第二电阻(122)和第三电阻(123);第一电阻接地;第二电阻、第三电阻分别连接第一反相器(120)、第二反相器(121)。
3.根据权利要求2所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述外部RC耦合电路经第五金属件(205)与第一N阱的左侧多晶硅栅(115)连接,经第六金属件(206)与与第一N阱的第二N+注入区(105)连接,经第七金属件(207)与第一N阱的右侧多晶硅栅(116)连接;
所述第一P+注入区(101)引接第一金属件(201),第一N+注入区(102)引接第二金属件(202),第三N+注入区(107)引接第三金属件(203);第五P+注入区(108)引接第四金属件(204);
所述第一金属件、第二金属件与第八金属件(208)相连;第八金属件引出第一电极(211)作为第一电力学应力终端;
撰述这第三金属件、第四金属件与第九金属(209)相连;第九金属件引出第二电极(212)作为第二电力学应力终端。
4.根据权利要求3所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述第一金属件、第二金属件、第三金属件、第四金属件、第五金属件、第六金属件、第七金属件的材质相同,第八金属件、第九金属件的材质相同。
5.根据权利要求3所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述RC耦合辅助触发路径触发电路的PMOS包括横跨第一P阱(110)和第一N阱(111)的第二P+注入区(103),还包括横跨第一N阱(111)和第二P阱(112)的第四P+注入区(106);
第一N阱的左侧多晶硅栅(115)、第一N阱的右侧多晶硅栅(116)、左侧多晶硅栅(115)、左侧薄栅氧(117)、右侧多晶硅栅(116)和右侧薄栅氧(118)均为PMOS的栅极;第一N阱的左侧多晶硅栅(115)与第一反相器(120)相连,第一N阱的右侧多晶硅栅(116)与第二反相器(121)相连。
6.根据权利要求5所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述RC耦合辅助触发路径触发电路通过快速检测ESD脉冲来实现快速触发,并通过PMOS和RC触发电路来降低触发电压;所述PMOS为环形结构,用于提供额外的电流泄放路径来降低导通电阻、增大电流驱动能力及增大面积效率。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的