[发明专利]一种双向可控硅器件在审

专利信息
申请号: 202211297579.3 申请日: 2022-10-22
公开(公告)号: CN115602682A 公开(公告)日: 2023-01-13
发明(设计)人: 李凡阳;韩嘉迅 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 郭东亮;蔡学俊
地址: 362251 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 双向 可控硅 器件
【权利要求书】:

1.一种双向可控硅器件,为RC电路触发的双向SCR器件,其特征在于:所述可控硅器件包括由外接的RC耦合电路,反相器和PMOS组成的RC耦合辅助触发路径,还包括由环形PMOS提供的第一放电路径,以及由PNPN结构组成的SCR大电流泄放路径,所述外接的RC耦合电路通过自偏置方式提供用于触发器件ESD保护动作的ESD信号电压。

2.根据权利要求1所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述可控硅器件在制备时,以BCD工艺在其衬底p-sub(114)处设置深N阱DNW(113),并在深N阱中设置第一P阱(110)、第一N阱(111)、第二P阱(112);

第一P阱中设有第一P+注入区(101)、第一N+注入区(102);第一N阱中设有连接第一P阱与第一N阱的第二P+注入区(103);

第二N+注入区(105)分布于第一N阱(111)中央对称轴位置,且被第三环形P+注入区(104)环绕;

第四P+注入区(106)连接着第一N阱与第二P阱,并以第一N阱(111)中央对称轴与第二P+注入区对称;

第三N+注入区(107)位于第二P阱中,并以第一N阱(111)中央对称轴与第一N+注入区(102)对称;

第五P+注入区(108)位于第二P阱中,并以第一N阱(111)中央对称轴与第一P+注入区(101)对称;

第一N阱(111)中,左侧多晶硅栅(115)与左侧薄栅氧(117)连接第二P+注入区(103)与第三环形P+注入区(104),右侧多晶硅栅(116)与右侧薄栅氧(118)连接第三环形P+注入区(104)与第四P+注入区(106);第二N+注入区(105)连接外部RC耦合电路(212)的电容(119),该电容(119)连接第一电阻(124)、第二电阻(122)和第三电阻(123);第一电阻接地;第二电阻、第三电阻分别连接第一反相器(120)、第二反相器(121)。

3.根据权利要求2所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述外部RC耦合电路经第五金属件(205)与第一N阱的左侧多晶硅栅(115)连接,经第六金属件(206)与与第一N阱的第二N+注入区(105)连接,经第七金属件(207)与第一N阱的右侧多晶硅栅(116)连接;

所述第一P+注入区(101)引接第一金属件(201),第一N+注入区(102)引接第二金属件(202),第三N+注入区(107)引接第三金属件(203);第五P+注入区(108)引接第四金属件(204);

所述第一金属件、第二金属件与第八金属件(208)相连;第八金属件引出第一电极(211)作为第一电力学应力终端;

撰述这第三金属件、第四金属件与第九金属(209)相连;第九金属件引出第二电极(212)作为第二电力学应力终端。

4.根据权利要求3所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述第一金属件、第二金属件、第三金属件、第四金属件、第五金属件、第六金属件、第七金属件的材质相同,第八金属件、第九金属件的材质相同。

5.根据权利要求3所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述RC耦合辅助触发路径触发电路的PMOS包括横跨第一P阱(110)和第一N阱(111)的第二P+注入区(103),还包括横跨第一N阱(111)和第二P阱(112)的第四P+注入区(106);

第一N阱的左侧多晶硅栅(115)、第一N阱的右侧多晶硅栅(116)、左侧多晶硅栅(115)、左侧薄栅氧(117)、右侧多晶硅栅(116)和右侧薄栅氧(118)均为PMOS的栅极;第一N阱的左侧多晶硅栅(115)与第一反相器(120)相连,第一N阱的右侧多晶硅栅(116)与第二反相器(121)相连。

6.根据权利要求5所述的一种双向可控硅器件,其特征在于:所述RC耦合辅助触发路径触发电路通过快速检测ESD脉冲来实现快速触发,并通过PMOS和RC触发电路来降低触发电压;所述PMOS为环形结构,用于提供额外的电流泄放路径来降低导通电阻、增大电流驱动能力及增大面积效率。

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