[发明专利]功能化表面及其制备

权利要求书

1.一种表面图案化方法，所述方法包括：

将第一组分子施加到结构的表面，其中所述第一组分子中的每一个与所述表面结合并且不含能够与核苷结合的反应性基团；

将电磁辐射(EMR)施加到所述表面的预定区域，其中所述EMR具有约100nm至约300nm的波长，其中所述EMR的施加导致在所述预定区域处去除所述第一组分子，从而限定用于寡核酸延伸的不同座位；以及

合成多个寡核酸，其中每个寡核酸从不同的座位延伸，并且其中当使用光学显微镜在白光照明之后通过计算从每个座位延伸的寡核酸的信号变化幅度除以总信号强度来测量时，所述不同的座位为至少约75％一致。

2.根据权利要求1所述的方法，其中在施加EMR之后，在所述表面的所述预定区域处去除超过约90％的所述第一组分子。

3.根据权利要求1所述的方法，其中在施加EMR之后，在所述表面的所述预定区域处去除约100％的所述第一组分子。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定区域具有约1um至约500um的宽度。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定区域具有约3um至约60um的宽度。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定区域具有至少3um的宽度。

7.一种表面图案化方法，所述方法包括：

将第一组分子施加到结构的表面，其中所述第一组分子中的每一个包含能够与核苷结合的反应性基团；

将电磁辐射(EMR)施加到所述表面的预定区域，其中所述EMR具有约100nm至约300nm的波长，其中所述EMR的施加导致在所述预定区域处去除所述第一组分子，从而限定用于寡核酸延伸的不同座位；以及

合成多个寡核酸，其中每个寡核酸从不同的座位延伸，并且其中当使用光学显微镜在白光照明之后通过计算从每个座位延伸的寡核酸的信号变化幅度除以总信号强度来测量时，所述不同的座位为至少约75％一致。

8.一种表面图案化方法，所述方法包括：

将第一组分子施加到结构的表面，其中所述第一组分子中的每一个与所述表面结合并且包含能够与核苷结合的反应性基团；

合成第一层寡核酸，其中所述第一层寡核酸中的每个寡核酸具有约10至约100个碱基的长度并从所述表面延伸；

将电磁辐射(EMR)施加到所述表面的预定区域以选择性地去除该层寡核酸的一部分，其中所述EMR具有约100nm至约300nm的波长；以及

合成第二层寡核酸，其中所述第二层寡核酸中的每个寡核酸从所述第一层寡核酸的剩余部分处延伸。

9.一种合成的寡核酸的文库，其包含多个不同的寡核酸，每个不同的寡核酸从结构上于不同座位处延伸，其中当使用光学显微镜在白光照射之后通过计算从每个座位延伸的寡核酸的信号变化幅度除以的总信号强度来测量时，所述不同的座位为至少约75％一致。

10.一种基因合成方法，所述方法包括：

为多个寡核酸提供预定序列，其中所述多个寡核酸共同编码多个基因；

提供用于寡核酸合成的表面；

从所述表面合成所述多个寡核酸，其中每个寡核酸从不同的座位延伸，并且其中当使用光学显微镜在白光照射之后通过计算从每个座位延伸的寡核酸的信号变化幅度除以的总信号强度来测量时，所述不同的座位为至少约75％一致；以及

从所述多个寡核酸组装所述多个基因。