[发明专利]一种光刻机用圆晶片的涂胶装置在审

专利信息
申请号: 202211276382.1 申请日: 2022-10-18
公开(公告)号: CN116078607A 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 张艺超;王云飞;冯武卫 申请(专利权)人: 浙江海洋大学
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/08;B05C11/10;B05C13/02;H01L21/67
代理公司: 浙江永航联科专利代理有限公司 33304 代理人: 贾森君
地址: 316022 浙江省舟山市普陀海*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 机用圆 晶片 涂胶 装置
【权利要求书】:

1.一种光刻机用圆晶片的涂胶装置,包括外筒(1a)和内筒(1b),内筒(1b)同轴设置在外筒(1a)的内部,外筒(1a)的顶端高于内筒(1b)的顶端,其特征在于,还包括锥筒(1c)、旋转筒(1d)、伸缩筒(1e)、吸盘(1f)、顶升执行单元(1g)和旋转执行单元(1h),锥筒(1c)同轴转动的设置在外筒(1a)和内筒(1b)之间,锥筒(1c)的内锥面自外筒(1a)的顶端延伸至内筒(1b)的顶端,旋转筒(1d)同轴转动的设置在内筒(1b)中,伸缩筒(1e)沿轴向滑动设置在旋转筒(1d)中,吸盘(1f)同轴设置在旋转筒(1d)的顶端,且其吸附端竖直朝上,顶升执行单元(1g)设置在内筒(1b)的底部用以沿竖直方向顶升伸缩筒(1e),旋转执行单元(1h)设置在外筒(1a)外用以驱动锥筒(1c)和旋转筒(1d)旋转。

2.根据权利要求1所述的一种光刻机用圆晶片的涂胶装置,其特征在于,锥筒(1c)的内锥面的底端低于内筒(1b)的顶端,且锥筒(1c)内锥面底端的直径小于内筒(1b)的外径。

3.根据权利要求2所述的一种光刻机用圆晶片的涂胶装置,其特征在于,外筒(1a)的内周和内筒(1b)的外周之间还设有倾斜向下的引流板(1i),外筒(1a)上还设置有位于引流板(1i)低端外侧的出胶口(1a1)。

4.根据权利要求2或3所述的一种光刻机用圆晶片的涂胶装置,其特征在于,还包括转动圈(1j)和磁块(1k),转动圈(1j)同轴转动的设置在外筒(1a)的内周,转动圈(1j)位于锥筒(1c)的底部,转动圈(1j)的内圆周面沿轴向设置有沿其径向延伸的扇片(1j1),磁块(1k)沿周向固定设置在旋转筒(1d)的外圆周面,且磁块(1k)与扇片(1j1)处于同一高度,磁块(1k)为亲磁性材质。

5.根据权利要求2或3所述的一种光刻机用圆晶片的涂胶装置,其特征在于,还包括连杆(1m)和拉簧(1n),连杆(1m)沿周向布置在吸盘(1f)的底部,连杆(1m)的一端通过销轴与吸盘(1f)的底端转动连接,销轴的轴线竖直,连杆(1m)的另一端具有可沿径向贴合锥筒(1c)内锥面的刮面(1m1),拉簧(1n)的一端与销轴连接,拉簧(1n)的另一端与另一个连杆(1m)的内侧连接。

6.根据权利要求1所述的一种光刻机用圆晶片的涂胶装置,其特征在于,旋转筒(1d)的外周沿周向设置有沿其轴向延伸的齿条(1d1),伸缩筒(1e)的内周沿周向设置有沿其轴向延伸的齿槽(1e1),齿条(1d1)和齿槽(1e1)嵌合滑动配合。

7.根据权利要求1所述的一种光刻机用圆晶片的涂胶装置,其特征在于,伸缩筒(1e)的内周底端设置有与其同轴的阶梯槽(1e2),顶升执行单元(1g)包括电动推杆(1g1)、齿圈(1h2)和固定环(1g3),外筒(1a)和内筒(1b)的底端设有密封板,电动推杆(1g1)沿竖直方向设置在密封板的底端,电动推杆(1g1)的输出轴贯穿密封板并延伸至伸缩筒(1e)内,轴承(1g2)同轴设置在阶梯槽(1e2)中,固定环(1g3)同轴套设在电动推杆(1g1)的输出轴上,固定环(1g3)与轴承(1g2)的内圈同轴固定连接。

8.根据权利要求7所述的一种光刻机用圆晶片的涂胶装置,其特征在于,旋转筒(1d)和伸缩筒(1e)的底端高于密封板,固定环(1g3)上设有沿轴向贯穿其的气孔(1g4),内筒(1b)的内周底端设有与其同轴的第一限位环(1p),旋转筒(1d)的外周底端设有与其同轴的第二限位环(1q),第一限位环(1p)和外筒(1a)之间设置有密封圈(1r)以在旋转筒(1d)和伸缩筒(1e)的底端形成负压腔,密封板底端设置有接气管(1o),接气管(1o)连通负压腔和外界负压源。

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