[发明专利]确定屏幕漏光的跌落深度的方法、装置及电子设备有效

专利信息
申请号: 202211209421.6 申请日: 2022-09-30
公开(公告)号: CN115290299B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 杨香玉 申请(专利权)人: 深圳市汇顶科技股份有限公司
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 代理人: 孙涛;毛威
地址: 518045 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 确定 屏幕 漏光 跌落 深度 方法 装置 电子设备
【权利要求书】:

1.一种确定屏幕漏光的跌落深度的方法,其特征在于,所述方法包括:

根据垂直同步信号,获取采样数据;

根据所述采样数据,确定第一采样序列,以及第二采样序列和/或第三采样序列,所述第一采样序列为屏幕漏光跌落波形的跌落区的采样序列,所述第二采样序列为所述屏幕漏光跌落波形的跌落区左侧的采样序列,所述第三采样序列为所述屏幕漏光跌落波形的跌落区右侧的采样序列;

根据所述第一采样序列,以及第二采样序列和/或第三采样序列确定所述跌落深度;

所述根据所述第一采样序列,以及第二采样序列和/或第三采样序列确定所述跌落深度包括:

根据所述第一采样序列,以及第二采样序列和/或第三采样序列确定跌落深度序列;

根据所述跌落深度序列确定所述跌落深度;

所述根据所述第一采样序列,以及第二采样序列和/或第三采样序列确定跌落深度序列包括:

根据所述第一采样序列和所述第二采样序列确定所述跌落深度序列;或

根据所述第一采样序列和所述第三采样序列确定所述跌落深度序列;或

根据所述第一采样序列、所述第二采样序列和所述第三采样序列确定所述跌落深度序列;

在所述屏幕漏光的跌落频率高于环境光频闪频率且所述屏幕漏光的跌落频率与所述环境光频闪频率不是倍频关系时,根据所述第一采样序列和所述第二采样序列确定所述跌落深度序列;或根据所述第一采样序列和所述第三采样序列确定所述跌落深度序列;

在所述屏幕漏光的跌落频率与环境光频闪频率相近或所述屏幕漏光的跌落频率与所述环境光频闪频率是倍频关系时,根据所述第一采样序列、所述第二采样序列和所述第三采样序列确定所述跌落深度序列;

所述根据所述第一采样序列、所述第二采样序列和所述第三采样序列确定所述跌落深度序列包括:

计算所述第二采样序列和所述第三采样序列在所述第一采样序列对应的时序位置的插值运算结果以获取第四采样序列;

计算所述第四采样序列与所述第一采样序列的差值以确定所述跌落深度序列。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据垂直同步信号,获取采样数据包括:

接收所述屏幕发送的垂直同步信号,经过第一时延后获取所述采样数据。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述采样数据,确定第一采样序列,以及第二采样序列和/或第三采样序列包括:

根据信噪比需求,对所述采样数据进行滤波处理;

根据滤波后的所述采样数据确定所述第一采样序列,以及所述第二采样序列和/或所述第三采样序列。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一采样序列和所述第二采样序列确定所述跌落深度序列包括:

确定所述第二采样序列中第一时序位置附近M个采样点对应的采样数据的平均值为第一最大值,M为正整数;或

确定所述第二采样序列中数值最大的采样数据对应的时序位置附近M个采样点对应的采样数据的平均值为第一最大值,M为正整数;

计算所述第一最大值与所述第一采样序列的差值以确定所述跌落深度序列。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一采样序列和所述第三采样序列确定所述跌落深度序列包括:

确定所述第三采样序列中第二时序位置附近N个采样点对应的采样数据的平均值为第二最大值,N为正整数;或

确定所述第三采样序列中数值最大的采样数据对应的时序位置附近N个采样点对应的采样数据的平均值为第二最大值,N为正整数;

计算所述第二最大值与所述第一采样序列的差值以确定所述跌落深度序列。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述跌落深度序列确定所述跌落深度包括:

根据所述跌落深度序列中固定的数据确定所述跌落深度;或

根据所述跌落深度序列中变化的数据确定所述跌落深度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市汇顶科技股份有限公司,未经深圳市汇顶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211209421.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top