[发明专利]树脂及其制备方法、光刻胶、光刻方法

说明书

本申请提供了树脂及其制备方法、光刻胶、光刻方法。树脂应用于光刻胶，树脂包括多个单体单元，多个单体单元的至少部分包括至少一个含有羧基的基团；其中，树脂包括丙烯酸型聚合物与硅氧烷型聚合物中的至少一种。本申请通过使树脂的单体单元包括含有羧基的基团，既使其制备的光刻胶更容易溶解于显影液，又使打开氮氮双键的能量减小，从而减小光刻胶需要的曝光能量，减少曝光时间，进而提高生产效率。

技术领域

本申请属于光刻技术领域，具体涉及树脂及其制备方法、光刻胶、光刻方法。

背景技术

光刻工艺通常需要经过涂布、曝光、及显影等制程。其中，在曝光制程中，通常需要对光刻胶进行曝光以固化光刻胶。但是，由于光刻胶需要的曝光能量较大，导致曝光时间较长，从而降低生产效率。

发明内容

鉴于此，本申请第一方面提供了一种树脂，应用于光刻胶，所述树脂包括多个单体单元，所述多个单体单元的至少部分包括至少一个含有羧基的基团；其中，所述树脂包括丙烯酸型聚合物与硅氧烷型聚合物中的至少一种。

本申请第一方面提供的树脂，包括丙烯酸型聚合物和/或硅氧烷型聚合物，为树脂应用于光刻胶提供基础；并且，在树脂中，多个单体单元的至少部分包括至少一个含有羧基的基团，以减小光刻胶需要的曝光能量。

具体地，由于含有羧基的基团显酸性，不仅能够提高光刻胶在碱性显影液中的溶解能力，而且能够使曝光时需要打开氮氮双键的能量减小，从而减小光刻胶需要的曝光能量。

因此，本申请通过使树脂的单体单元包括含有羧基的基团，既使其制备的光刻胶更容易溶解于显影液，又使打开氮氮双键的能量减小，从而减小光刻胶需要的曝光能量，减少曝光时间，进而提高生产效率，减小生产成本。

其中，每个所述单体单元包括至少一个所述含有羧基的基团。

其中，所述含有羧基的基团包括间苯二甲酸基团、苯甲酸基团、邻苯二甲酸基团中的一种或多种。

本申请第二方面提供了一种树脂的制备方法，包括：

提供丙烯酸型聚合物与硅氧烷型聚合物中的至少一种；其中，所述丙烯酸型聚合物与所述硅氧烷型聚合物均包括多个单体单元；

提供含有羧基基团的化合物；及

将所述多个单体单元与所述含有羧基基团的化合物混合反应，以得到所述多个单体单元的至少部分包括至少一个所述含有羧基基团的树脂。

本申请第二方面提供的树脂的制备方法，该制备方法的工艺简单，可操作性强。将多个单体单元、及含有羧基基团的化合物混合反应，以得到所述多个单体单元的至少部分包括至少一个所述含有羧基基团的树脂。

因此，由上述制备方法制得的树脂的单体单元包括含有羧基的基团，既使其制备的光刻胶更容易溶解于显影液，又使打开氮氮双键的能量减小，从而减小光刻胶需要的曝光能量，减少曝光时间，进而提高生产效率，减小生产成本。

本申请第三方面提供了一种光刻胶，包括溶剂、表面活性剂、以及如本申请第一方面提供的树脂。

本申请第三方面提供的光刻胶，通过采用本申请第一方面提供的树脂，使光刻胶中树脂的单体单元包括含有羧基的基团，既使其制备的光刻胶更容易溶解于显影液，又使打开氮氮双键的能量减小，从而减小光刻胶需要的曝光能量，减少曝光时间，进而提高生产效率，减小生产成本。

其中，在所述光刻胶中，所述树脂的质量分数为5％-15％。

其中，所述表面活性剂包括醇类化合物，所述醇类化合物中的碳原子数量为1个-8个。

其中，在所述光刻胶中，所述醇类化合物的质量分数为0.05％-0.3％。

本申请第四方面提供了一种光刻方法，包括：