[发明专利]模块化超高真空电子显微镜

权利要求书

1.一种用于研究样品的超高（UH）真空电子显微镜系统，其包含：

UH真空室，所述UH真空室被配置成在所述室内达到并维持UH真空；

超高真空工作台，所述超高真空工作台被配置成保持所述样品；

带电粒子源，所述带电粒子源被配置成向所述样品发射多个电子；

光学柱，所述光学柱被配置成引导所述多个电子入射到所述样品上；

转盘真空隔室，所述转盘真空隔室被配置成独立于所述UH真空室在所述转盘真空隔室内达到并维持UH真空，其中：

所述转盘真空隔室经由端口连接到所述UH真空室；

所述转盘真空隔室容纳至少一个装置操纵器，所述装置操纵器中的每一个包含用于显微镜装置的附接位点；并且

所述装置操纵器中的每一个被进一步配置成当显微镜装置附接到其对应的附接位点时，经由阀在所述转盘真空隔室和所述UH真空室之间选择性地平移所附接的显微镜装置。

2. 根据权利要求1所述的UHV电子显微镜系统，其中所述端口具有阀，所述阀被配置成在打开状态下操作和关闭状态打开下操作之间选择性地切换，并且其中：

当所述阀在所述打开状态下操作时，所述转盘真空隔室对所述UHV室打开，并且

当所述阀在所述关闭状态下操作时，所述阀将所述转盘真空隔室与所述UHV室密封隔开。

3.根据权利要求2所述的UH真空电子显微镜系统，其中当所述阀在所述关闭状态下操作时，能够在不破坏所述UHV室中的所述UHV的情况下破坏所述转盘真空室中的所述真空。

4.根据权利要求1所述的UHV电子显微镜系统，其中所述转盘真空隔室被配置成独立于所述UH真空室在所述真空转盘隔室内获得UH真空。

5.根据权利要求4所述的UHV电子显微镜系统，其中当所述阀在所述关闭状态下操作时，所述UHV室能够用于在所述真空转盘隔室不在真空或UHV状态下研究所述样品。

6.根据权利要求1所述的UHV电子显微镜系统，其中选择性地平移包含：基于附接到对应的装置操纵器的显微镜装置的类型，将所述显微镜装置平移到相对于所述样品的期望位置。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的UHV电子显微镜系统，其中所述转盘真空隔室容纳多个装置操纵器。

8.根据权利要求7所述的UHV电子显微镜系统，其中多个装置操纵器能够同时经由所述阀将对应的显微镜装置平移到UH真空室中。

9.根据权利要求7所述的UHV电子显微镜系统，其中个别装置操纵器能够在所述转盘真空室内平移，以允许装置操纵器的不同组合经由所述阀将对应的显微镜装置平移到所述UH真空室内。

10.根据权利要求1至6中任一项所述的UHV电子显微镜系统，其中所述显微镜装置能够在不损坏所述显微镜装置、所述装置操纵器或所述装置操纵器的附接位点的情况下选择性地附接到所述附接位点并从其上分离。

11.根据权利要求10所述的UHV电子显微镜系统，其中所述转盘真空隔室包含多个附加的显微镜装置，所述附加的显微镜装置能够在不损坏所述显微镜装置或个别存储附接位点的情况下选择性地附接到所述附接位点并从其上分离。

12.根据权利要求10所述的UHV电子显微镜系统，其中所述转盘真空隔室进一步包含加载机构，所述加载机构被配置成在附接到对应的附接位点和附接到对应的存储附接位点之间转换个别显微镜装置。

13.根据权利要求1至6中任一项所述的UHV电子显微镜系统，其中所述转盘室包括UHV加载器，所述UHV加载器被配置成在不破坏所述转盘真空室中的所述真空的情况下从环境接收UHV隔腔，并且将所述UH隔腔引入到所述转盘真空室的内部。