[发明专利]一种低泡清洗剂及其制备方法

说明书

本发明公开了一种低泡清洗剂及其制备方法，包括如下重量份原料：1.5‑2份偏硅酸钠，0.3‑2.5份十二烷基磺酸钠，1‑3.5份烷基醇酰胺，5‑10份二乙醇胺，0.5‑1.5份缓蚀剂，1‑2份增溶剂，0.1‑0.5份有机硅消泡剂乳液，2‑5份聚三元羧酸酯，90‑95份去离子水；将十二烷基磺酸钠、烷基醇酰胺、二乙醇胺、缓蚀剂、增溶剂、有机硅消泡剂和聚三元羧酸酯加入去离子水中，混合均匀，制得低泡清洗剂；能够有效地清除金属表面的污渍，由于呈低碱性，能够有效的保护金属表面，而且加入了有机硅消泡剂乳液，使得清洗剂具有低泡易漂洗的特性。

技术领域

本发明涉及清洁技术领域，具体涉及一种低泡清洗剂及其制备方法。

背景技术

金属工件加工后，表面会携带污物，如各种切削液、导轨油等，若不清洗干净，不但影响加工工序的顺利进行，而且会引起并加速金属表面腐蚀，影响产品的加工质量和使用寿命。另外，在电镀、磷化(硅烷化)、涂釉、喷漆等精加工前，以及机械设备的维修和保养中，都离不开清洗工序。清洗工艺的选择和清洗效果的好坏，不仅涉及安全、能源及环保等重大问题，而且直接影响到产品的性能和质量，所以清洗工序已成了现代工业生产中不可缺少的重要环节。但水基金属清洗剂易起泡、易残留，严重时泡沫溢出带走大量表面活性剂，使得清洗剂寿命缩短，而且泡沫会降低清洗效率。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种低泡清洗剂及其制备方法。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种低泡清洗剂，包括如下重量份原料：1.5-2份偏硅酸钠，0.3-2.5份十二烷基磺酸钠，1-3.5份烷基醇酰胺，5-10份二乙醇胺，0.5-1.5份缓蚀剂，1-2份增溶剂，0.1-0.5份有机硅消泡剂乳液，2-5份聚三元羧酸酯，90-95份去离子水；

所述有机硅消泡剂乳液包括如下步骤制成：

步骤S1、将疏水气相白炭黑、磷酸二氢铵和1-辛醇混合后升温至100℃，保温反应1h，制得改性气相白炭黑；

步骤S2、将改性气相白炭黑和二甲基硅油混合后升温至150-180℃，保温搅拌3h，制得混合物；

步骤S3、将制得的混合物、脂肪醇、磷酸钠和复合乳化剂在70℃下混合均匀，之后缓慢加入去离子水，匀速搅拌20min后继续加入去离子水，继续搅拌20min，降温至室温，制得有机硅消泡剂乳液。

进一步地：步骤S1中控制疏水气相白炭黑、磷酸二氢铵和1-辛醇的重量比为100∶5-8∶3-5，步骤S2中控制混合物、脂肪醇、磷酸钠、复合乳化剂和去离子水的重量比为50-80∶10-20∶5-10∶25-35∶500-600。

进一步地：所述复合乳化剂为司盘-80和吐温-60按照5∶1的重量比混合而成。

一种低泡清洗剂的制备方法，包括如下步骤：

将十二烷基磺酸钠、烷基醇酰胺、二乙醇胺、缓蚀剂、增溶剂、有机硅消泡剂和聚三元羧酸酯加入去离子水中，混合均匀，制得低泡清洗剂。

本发明的有益效果：

本发明一种低泡清洗剂能够有效地清除金属表面的污渍，由于呈低碱性，能够有效的保护金属表面，而且加入了有机硅消泡剂乳液，使得清洗剂具有低泡易漂洗的特性，有机硅消泡剂在制备过程中引入了脂肪醇，能够增大有机硅消泡剂的铺展系数，降低消泡剂的进入势垒，并在泡膜表面形成松散的不稳定膜面，加快泡膜的破裂，此外，通过引入高价磷酸盐，能够破坏泡膜表面的电荷稳定，加速泡膜的老化合并，并与其他组分起到协同消泡的作用。

具体实施方式