[发明专利]一种用于改善材质表面触感的微结构图形制备方法及产品

说明书

本发明公开一种用于改善材质表面触感的微结构图形制备方法及产品,微结构图形制备方法包括以下步骤：S1：清洗基板；S2：在基板的表面涂覆一层光刻胶掩膜层；S3：对基板进行纳米压印，在基板的表面形成微纳米压印掩膜图形；S4：将带有光刻胶微纳米压印掩膜图形的基板进行刻蚀，刻蚀完成后，在基板表面形成微结构图形；微结构图形包括多个微结构单元，微结构单元的宽度范围为0.5～30um，高度范围为1.5～30um，深宽比范围为1：1～1：16，雾度范围为30％～80％，透过率范围为10％～60％。本发明通过在基板进行特殊处理，使其表面具有特定的微结构图形，得到良好且触觉感各异的顺滑感知。

技术领域

本发明属于表面微结构制备的技术领域，具体涉及一种用于改善材质表面触感的微结构图形制备方法及产品。

背景技术

现今的消费电子市场中，触控元件广泛应用于各式各样的消费电子装备。作为用户与电子产品之间最直接的信息传输媒介，对于触控元件的触感精度和体验感的追求随着时间越来越高，而价格逐渐降低，这表明用于消费电子应用的任何触摸传感器装置必须具有高的性价比。

目前常见的触控原件基本是在玻璃材料上利用硼砂溅射玻璃表面，实现凹坑或凸台的方式形成不可控的微结构达到有限的触感状态。

具有顺滑触感的消费类电子产品是市场期望的，但目前产生顺滑触感的表面加工方式，例如复合涂层、激光加工、等离子加工等，工艺或复杂或昂贵或无规律可循。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提出了一种用于改善材质表面触感的微结构图形制备方法及产品。

为了达到上述目的，本发明的技术方案如下：

一方面，本发明公开一种用于改善材质表面触感的微结构图形制备方法，包括以下步骤：

S1：清洗基板；

S2：在基板的表面涂覆一层光刻胶掩膜层；

S3：对基板进行纳米压印，在基板的表面形成微纳米压印掩膜图形；

S4：将带有光刻胶微纳米压印掩膜图形的基板进行刻蚀，刻蚀完成后，在基板表面形成微结构图形；

微结构图形包括多个微结构单元，微结构单元的宽度范围为0.5～30um，高度范围为1.5～30um，深宽比范围为1：1～1：16，雾度范围为30％～80％，透过率范围为10％～60％。

在上述技术方案的基础上，还可做如下改进：

作为优选的方案，基板的材料为玻璃、石英、蓝宝石、金属中的一种或多种。

作为优选的方案，S2中，光刻胶掩膜层的厚度范围为0.5～13μm。

作为优选的方案，S4中，利用ICP干法刻蚀设备进行刻蚀。

作为优选的方案，多个微结构单元按照周期值呈随机分布或矩阵分布。

作为优选的方案，微结构单元的结构为圆柱型、圆锥型、圆凸台型、鼓包型中的一种或多种。

作为优选的方案，微结构单元的结构为圆锥型时，圆锥的高度H的范围为0.5～5μm，圆锥的底部直径D范围为0.1～30μm，D/H的范围为2～10。

作为优选的方案，周期值范围为4～30μmm。

作为优选的方案，在S2之前，还包括：微结构图形的生成方法，具体包括以下内容：向处理器输入基板的材料，处理器通过计算分析得出微结构单元的具体结构、参数以及分布类型。

此外，本发明还公开一种利用上述任一种微结构图形制备方法获得的微结构图形。