[发明专利]一种PVD镀膜方法

说明书

本发明公开了一种PVD镀膜方法，其包括以下步骤：S1：第一次清洁工件；S2：将S1中的工件送入HKS‑G设备内，工件与HKS‑G设备内的PVD镀膜夹具连接；S3：HKS‑G设备加热工件；S4：第二次清洁工件，第二次清洁工件用于去除工件表面氧化物；S5：将S4中去除表面氧化物后的工件进行镀膜；S6：将S5中镀膜后的工件进行预冷；S7：将S6中预冷后的工件从HKS‑G设备取出，然后将工件进行抛光，从而得到工件成品。整体步骤既能对工件进行镀膜加工，还提升了工件的光洁度；使得工件表面成膜更均匀、更稳定，提升了工件镀膜的质量。

技术领域

本发明涉及镀膜加工领域，更具体地说，涉及一种PVD镀膜方法。

背景技术

镀膜是一种工艺，它将一层薄膜覆盖在工件表面上，以保护工件表面免受磨损和腐蚀，镀膜工艺可以应用于金属、塑料和其他材料，以提高工件使用寿命的作用。

现有的PVD镀膜过程中存在工件在反应炉内受热不均，造成工件硬度降低，以及工件成膜质量差的问题。所以我们提出了一种PVD镀膜方法来解决上述存在的问题。

发明内容

1．要解决的技术问题

针对现有技术中存在的问题，本发明的目的在于提供一种PVD镀膜方法，通过先对第一次清洁后的工件依次进行分段预热，PVD镀膜夹具带动工件转动；其次，对预热后的工件进行金属轰击清洁，使得能够进一步的保证工件洁净，接着通过分阶段控制靶材，将不同靶材，施加不同偏压和电流，进而能够在工件外壁表面镀膜；待工件完全冷却后，对成膜的工件表面进行精抛光；PVD镀膜方法解决了工件在反应炉内受热不均匀的问题，提升了工件的镀膜质量。

2．技术方案

为解决上述问题，本发明采用如下的技术方案。

一种PVD镀膜方法，包括以下步骤：

S1：第一次清洁工件，所述工件表面干燥、且粗糙度小于Ra0.1；

S2：将所述S1中的工件送入HKS-G设备内，所述工件与所述HKS-G设备内的PVD镀膜夹具连接；

S3：HKS-G设备加热工件，其包括：

S31：通过抽真空设备将所述HKS-G设备抽真空；

S32：启动S31中抽真空后的HKS-G设备运行，所述PVD镀膜夹具带动所述工件转动；

S33：以时间为单位，所述HKS-G设备内的加热装置对工件进行加热；

S4：第二次清洁工件，所述第二次清洁工件用于去除工件表面氧化物；

S5：将S4中去除表面氧化物后的工件进行镀膜；

S6：将S5中镀膜后的工件进行预冷；

S7：将S6中预冷后的工件从HKS-G设备取出，然后将所述工件进行抛光，从而得到工件成品。

本发明中，所述加热装置调节所述HKS-G设备内的温度；所述S33包括：

S331：将所述HKS-G设备内温度设置在750～850度，持续10～20分钟；

S332：将所述HKS-G设备内温度设置在450～550度，持续180～220分钟；

S333：将所述HKS-G设备内温度设置在400～500度，持续80～100分钟。

本发明中，所述S4的具体步骤为：

S41：往所述HKS-G设备通入气体，使得所述HKS-G设备内气压介于0.005－0.015Pa之间；

S42：金属轰击清洁工件，

启动第一靶材，将第一靶材以80～150A的电流以及300～1000V的偏压，将第一靶材离子化，离子化的第一靶材与工件表面的氧化物碰撞，从而去除工件表面氧化物；

S43：氧化物脱离工件表面后，被所述真空设备通过真空吸附排出HKS-G设备。