[发明专利]一种硅片喷砂机构

说明书

本发明提供一种硅片喷砂机构，包括：摆杆：用于悬吊喷枪，其上端部的两侧面构造有相背设置的凹仓；滑块组件：构造有相对设置的对开槽孔，所述槽孔能够在喷枪工作时与所述凹仓对扣以卡紧所述摆杆，并抵顶所述摆杆的外壁面使所述摆杆架设在所述滑块组件上。本发明一种硅片喷砂机构，悬吊喷枪的摆杆与控制其往复移动的滑块组件为卡配式结构，既稳固又简单，采用结构受力替代现有的螺栓受力，增加配合强度，延长使用寿命。在摆杆上设置用于调整喷枪高度的可调组件，以适应不同工艺的喷枪高度，防止喷枪脱落。同时在摆杆外部设置防护罩，以保证其与滑块组件配合的稳定性。

技术领域

本发明属于硅片背损伤技术领域，尤其是涉及一种可在硅片表面往复喷砂的控制机构。

背景技术

喷砂机是应用于抛光片加工中酸腐蚀后的加工工艺，主要作用是在硅片的背面进行机械损伤使其形成金属吸杂中心。当硅片达到一定温度时，如Fe, Ni, Cr, Zn等会降低载流子寿命的金属原子就会在硅体内运动，而当这些原子在硅片背面遇到损伤点，它们就会被诱陷并本能地从内部移动到损伤点，从而达到减少抛光面（正面）重金属杂质和晶格缺陷的作用。喷砂法是一种比较常见的背面软损伤工艺，该工艺采用一定粒径的颗粒状物质（如Al₂O₃）与水混合形成的砂浆，利用气压带动砂浆对移动中的传送带上的硅片进行喷砂，以达到在硅片背面形成“软”损伤的方法。通过对气压的大小、砂浆浓度、传送带的速度以及喷枪高度的改变，来控制硅片背面“软”损伤的程度，以达到使硅片具有吸杂能力又不致因机械损伤过大而带来其它负面效应。

对于现有喷砂机，由于控制喷枪往复移动的控制结构设计不合理，有以下几个问题：

（1）长期使用后导致悬吊喷枪的摆杆与控制其往复移动的滑块组件之间容易出现晃动，工作极不稳定，严重时摆杆出现折裂而脱落，喷枪位置高度跳动幅度较大，使得硅片表面喷砂质量不均匀。

（2）喷枪高度直接影响着喷砂质量，现有喷枪都是固定式结构，无法调节，很不方便。

（3）喷砂时的砂浆容易飞溅至摆杆上，导致摆杆与滑块组件配合缝隙处含有很多砂浆，致使滑块与摆杆摩擦力加大，进一步加速摆杆与滑块组件配合的不稳定，摆杆使用寿命短。

发明内容

本发明提供一种硅片喷砂机构，解决了现有技术中喷枪容易晃动、其高度无法调节而影响喷砂质量的技术问题。

为解决至少一个上述技术问题，本发明采用的技术方案是：

一种硅片喷砂机构，包括：

摆杆：用于悬吊喷枪，其上端部的两侧面构造有相背设置的凹仓；

滑块组件：构造有相对设置的对开槽孔，所述槽孔能够在喷枪工作时与所述凹仓对扣以卡紧所述摆杆，并抵顶所述摆杆的外壁面使所述摆杆架设在所述滑块组件上。

进一步的，所述摆杆被构造为扁状结构的型板，其顶部凸置于所述槽孔并沿所述槽孔对开设置的长度方向配置。

进一步的，所述摆杆靠近所述喷枪一端的宽度小于其靠近所述槽孔一端的宽度。

进一步的，所述滑块组件还包括：

相对设置的垫块，所述槽孔被配置在所述垫块的相邻面一侧；

用于固定所述垫块的安装板，所述安装板位于所述垫块的下方且被所述摆杆贯穿设置；

并在所述安装板的两侧边还配置有用于调整所述垫块与所述摆杆松紧的立块。

进一步的，所述垫块的长度小于所述安装板的长度且与所述安装板的长度中线重叠；

相对设置的所述垫块之间的宽度小于所述摆杆头部的最大宽度且大于所述摆杆头部的最小宽度。

进一步的，所述垫块靠近所述凹仓一侧壁面的两端部均为斜壁面；