[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202211098029.9 申请日: 2019-10-23
公开(公告)号: CN115768197B 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 都蒙蒙;董向丹;马宏伟;颜俊;程博;刘彪 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H10K59/131 分类号: H10K59/131;H10K59/121;H10K71/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 蒋莎莎
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,包括:

衬底基板,包括显示区和位于所述显示区至少一侧的邦定区;

多个子像素,位于所述显示区中;

多条数据线,位于所述显示区中,配置为向所述多个子像素提供数据信号;

多条数据引线,位于所述邦定区中且与所述多条数据线电连接;

至少一组接触垫,位于所述邦定区,所述至少一组接触垫包括多个接触垫,所述多个接触垫中的至少一个包括第一接触垫金属层和第二接触垫金属层,所述第一接触垫金属层位于所述多条数据引线远离所述衬底基板一侧,且与所述多条数据引线中的一条电连接,所述第二接触垫金属层位于所述第一接触垫金属层远离所述衬底基板的一侧,且与所述第一接触垫金属层电连接,所述第二接触垫金属层至少覆盖所述第一接触垫金属层的边缘;

第一绝缘层,位于所述邦定区,所述第一绝缘层位于所述多个接触垫之间的间隙并覆盖所述第二接触垫金属层的边缘,且被配置为露出所述多个接触垫的背离所述衬底基板的表面;以及

邦定区第三绝缘层,

其中,所述邦定区第三绝缘层位于所述邦定区中,并且设置在所述第一绝缘层和所述至少一组接触垫的远离所述衬底基板的一侧,所述第三绝缘层在所述衬底基板上的正投影与所述第一绝缘层在所述衬底基板上的正投影部分交叠,所述邦定区第三绝缘层在所述衬底基板上的正投影与所述第二接触垫金属层在所述衬底基板上的正投影部分交叠;

所述邦定区第三绝缘层具有第三接触垫过孔以露出所述至少一组接触垫的表面。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述第二接触垫金属层在所述衬底基板的表面上的正投影覆盖所述第一接触垫金属层在所述衬底基板的所述表面上的正投影。

3.根据权利要求1或2所述的显示基板,其中,所述第一接触垫金属层的远离所述衬底基板一侧的表面与所述第二接触垫金属层的靠近所述衬底基板一侧的表面直接接触。

4.根据权利要求1所述的显示基板,还包括至少一层邦定区绝缘层,所述至少一层邦定区绝缘层位于所述邦定区中,且至少部分所述至少一层邦定区绝缘层位于所述第一接触垫金属层和所述数据引线之间,所述至少一层邦定区绝缘层在所述衬底基板上的正投影与所述数据引线在所述衬底基板上的正投影部分交叠。

5.根据权利要求4所述的显示基板,其中,所述至少一层邦定区绝缘层位于所述第一绝缘层与所述衬底基板之间,所述至少一层邦定区绝缘层的远离所述衬底基板的表面分别与所述第一接触垫金属层的靠近所述衬底基板一侧的表面、所述第二接触垫金属层的靠近所述衬底基板一侧的表面以及所述第一绝缘层靠近所述衬底基板一侧的表面直接接触。

6.根据权利要求4所述的显示基板,其中,所述至少一层邦定区绝缘层包括:邦定区层间绝缘层和邦定区第二栅绝缘层,所述邦定区层间绝缘层位于所述邦定区第二栅绝缘层的远离所述衬底基板的一侧。

7.根据权利要求6所述的显示基板,其中,所述邦定区第二栅绝缘层包括第一接触垫过孔,所述邦定区层间绝缘层包括第二接触垫过孔,所述多条数据引线中的至少一条通过所述第一接触垫过孔及所述第二接触垫过孔与所述多个接触垫中的至少一个电连接。

8.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述第一绝缘层的材料为有机绝缘材料。

9.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述多条数据引线的材料与所述第一接触垫金属层和所述第二接触垫金属层的材料不同。

10.根据权利要求9所述的显示基板,其中,所述多条数据引线的所述材料包含金属钼,所述第一接触垫金属层和所述第二接触垫金属层的所述材料包含金属钛或铝。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211098029.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top