[发明专利]一种液体直链烷基苯磺酸钠生产用设备及工艺

权利要求书

1.一种液体直链烷基苯磺酸钠生产用设备，其特征在于，包括：

反应容器(1)，所述反应容器(1)布置有反应腔；

驱动组件(2)；所述驱动组件(2)布置联接所述反应容器(1)；

搅拌组件(3)，所述搅拌组件(3)布置在所述反应腔内部；

其中，所述搅拌组件(3)包括一端安装于反应腔内壁的框体、沿第一方向布置在所述框体间隙位置处的旋转轴(31)、安装在所述旋转轴(31)表面的搅拌叶片(32)和安装于所述框体另一端的粉碎部(33)，所述搅拌叶片在所述粉碎部(33)的下方相对设置；

所述驱动组件(3)联接所述旋转轴(31)，所述粉碎部(33)包括设置有粉碎腔的外壳(331)、在粉碎腔内部设置的旋转机构(332)和沿所述旋转机构(322)周向布置的切割片，所述切割片于所述粉碎腔内壁设置有间隙，所述外壳(331)表面开设有至少一个出料口，且所述旋转轴一端固定连接所述旋转机构(332)。

2.如权利要求1所述的一种液体直链烷基苯磺酸钠生产用设备，其特征在于，包括以下特征至少之一:

一、所述外壳(331)表面开设有八个出料口；

二、所述切割片与粉碎腔之间的间隙为0.2-0.4cm；

三、所述旋转机构(332)底部与所述粉碎腔底部设置有第二间隙，所述第二间隙为0.2-0.4cm；

四、所述旋转机构(332)的外径为200mm；

五、所述驱动组件(2)包括第一电机，所述第一电机的转速为3000转；

六、所述反应容器开设有进料端，所述进料端布置在所述反应容器的顶部或者侧边；所述反应容器还开设有出料端，所述出料端布置在所述反应容器的底部或者侧边。

3.如权力要求2所述的一种液体直链烷基苯磺酸钠生产用设备，其特征在于，所述搅拌组件(3)还包括电磁铁吸附系统(34)，所述电磁铁吸附系统(34)布置在固定安装于所述旋转机构(332)；

所述电磁铁吸附系统(34)的正下方还布置有搅拌部(35)，所述搅拌部(35)的中间位置布置有与电磁铁吸附系统(34)对应设置的磁吸部，当对所述电磁铁吸附系统(34)通电时，所述电磁铁吸附系统(34)吸附所述搅拌部(35)；

其中，所述搅拌部(35)的外边缘通过轴承件转动连接所述反应腔内壁，且，所述轴承件可以沿第一方向滑动。

4.如权利要求(3)所述的一种液体直链烷基苯磺酸钠生产用设备，其特征在于，所述出料端开设在所述反应容器(1)的底部，所述反应容器(1)底部呈弧形设置，所述搅拌部(35)包括延伸至所述出料端位置处的搅拌柱；

所述反应腔的内壁还布置有弹性支撑件，所述弹性支撑件在所述搅拌部的正下方设置，在所述电磁铁吸附系统(34)断电的状态下，所述弹性支撑件支撑所述搅拌部。

5.如权利要求3所述的一种液体直链烷基苯磺酸钠生产用设备，其特征在于，还包括温度控制系统(4)，所述温度控制系统包括：

温度控制设备(41)，所述温度控制设备(41)在所述反应容器(1)外围设置，与所述反应容器(1)外表面形成第二间隙；

所述温度控制设备包括第一支撑架和在第一支撑架外围设置的第二支撑架，所述第一支撑架(411)和第二支撑架之间布置有间隙，且第一支撑架(411)和第二支撑架的间隙位置处布置有半导体控温件(412)，所述半导体控温件(412)布置有冷端和热端，冷端和热端分别与第一支撑架(411)和第二支撑架接触；

温度传递机构(42)使得第一支撑架(411)或第二支撑架与反应容器(1)接触，以将冷端或者热端的温度传递至反应容器(1)表面。

6.如权利要求3所述的一种液体直链烷基苯磺酸钠生产用设备，其特征在于，所述电磁铁吸附系统(34)与所述磁吸部相对设置的一侧表面布置有凸起部和凹陷部。