[发明专利]一种DDR分子筛膜的制备方法在审
| 申请号： | 202211040046.7 | 申请日： | 2022-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN115569534A | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 顾学红;彭莉;杨菊 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D69/02;B01D67/00;B01D53/22 |
| 代理公司： | 南京新慧恒诚知识产权代理有限公司 32424 | 代理人： | 邓唯 |
| 地址： | 211816 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 ddr 分子筛 制备 方法 | ||
1.一种DDR分子筛膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
第1步，负载晶种的支撑体的制备：球磨Sigma-1分子筛晶种溶于水中配置成晶种悬浮液，涂覆到多孔支撑体上；
第2步，DDR分子筛膜的制备：将金刚烷胺、乙烯胺、去离子水、硅溶胶按一定的摩尔比配制合成液，通过二次水热合成法制备分子筛膜。
第3步：DDR分子膜的活化：采用臭氧气氛对合成的DDR分子筛膜进行处理，得到活化后的DDR分子筛膜。
2.根据权利要求1所述的一种DDR分子筛膜的制备方法，其特征在于，所述的第1步中，Sigma-1晶种悬浮液的质量浓度是0.1wt.％-2wt.％，涂覆方法为浸渍提拉。
3.根据权利要求1所述的一种DDR分子筛膜的制备方法，其特征在于，所述的第1步中，所述的支撑层的材质为多孔陶瓷。
4.根据权利要求1所述的一种DDR分子筛膜的制备方法，其特征在于，所述的第2步中，所述乙烯胺为二乙烯三胺、三乙烯四胺和四乙烯五胺中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的一种DDR分子筛膜的制备方法，其特征在于，所述的第2步中，合成液硅源中SiO2、金刚烷胺、乙烯胺和水的摩尔比为1:0.01-0.06:0.2-1:20-80。
6.根据权利要求1所述的一种DDR分子筛膜的制备方法，其特征在于，所述的第2步中，二次水热合成的温度为120-180℃，反应时间为3-48h。
7.根据权利要求1所述的一种DDR分子筛膜的制备方法，其特征在于，所述的第3步中，采用臭氧气氛对合成的DDR分子筛膜进行处理的时间为72-192h，处理温度为200-250℃。
8.一种采用权利要求1-7中任一制备方法制备的DDR分子筛膜。
9.一种根据权利要求8所述的DDR分子筛膜在用于气体分离中的用途。
10.根据权利要求9所述的用途，其特征在于，所述的气体分离是指CO2/CH4气体分离。
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