[发明专利]一种新型精密混合集成电路的加工方法在审

专利信息
申请号: 202210930366.3 申请日: 2022-08-03
公开(公告)号: CN115334751A 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 宋立峰 申请(专利权)人: 山东中为电子科技有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/18;H05K3/42;H05K1/09
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 杨彬
地址: 274700 山东省菏*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 精密 混合 集成电路 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤(1):激光打孔,采用150W的光纤激光进行打孔和切割,打孔孔径0.08mm-0.1mm,0.1mm以上孔和槽采用激光切割的方式加工,切割速度3mm/s,孔壁和槽壁粗造度不大于2.5μm,切割完成后,用刮渣机进行刮渣,然后用超声波清洗,然后在150℃下进行烘干处理;

步骤(2):阻浆印刷和烧结,在常规氧化钌电阻浆料的基础上,排氧处理和粘度调整,用超声波振荡器对浆料进行排氧和搅拌,然后静置60min,用300#的不锈钢网板,采用CCD扫描定位进行阻浆印刷,确认合格后在150℃下进行预烘烤,烘烤时间30min,静置冷却15min以上,然后用280#的网板印刷陶瓷釉,印刷完成后静置30min,然后直接放入空气隧道烧结炉中进行烧结;

步骤(3):磁控溅射和电镀,氧化钌电阻浆料用等离子做表面清洁处理,清洁时用氩气和氧气,处理时间30min,然后进行磁控溅射,真空度1*10-4MPa,腔体温度350℃,镀钛100nm,镀铜800nm,磁控溅射完成后用2%的H2SO4常温清洗10s,进行整版电镀铜;

步骤(4):精密电路加工,用喷砂刷光机对铜表面清洁并烘干处理,然后对板面进行贴膜加工,贴膜后的基板放入CCD扫描定位的曝光机里面曝光,曝光完成的基板静置15min后放入DES线中,进行干膜显影、蚀刻电路、褪除干膜,然后水洗后进行烘干处理;

步骤(5):电路检查,用AOI光学检查系统对整个版面进行光学扫描,通过电脑的线路数据和扫描的采集数据进行对比,不超过公差范围即为合格;

步骤(6):防焊油墨加工,用普通的印刷机对版面进行阻焊油墨印刷,印刷后的基板静置15min,然后放入烤箱中进行预固化,固化时间15min,固化好的基板放入CCD扫描定位的曝光机里面进行曝光,曝光后的基板静置15min后放入阻焊显影机中进行显影,阻焊显影后的基板放入烤箱里面高温固化,固化时间45min;

步骤(7):表面处理,基板进行镀金处理,金厚范围是0.025μm-1.0μm;

步骤(8):激光调阻,根据不同的产品,做对应的治具,然后在线激光调整阻浆的截面积,电阻的控制精度能达到±2%以内;

步骤(9):激光加工,用150W的光纤激光切割外形和非金属化的孔,切割速度2mm/s,氮气降温;

步骤(10):包装,检查已经加工好的产品,采用防静电真空吸附袋来包装。

2.根据权利要求1所述的新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,步骤(1)打孔和切割之前通过手工标识的方式在陶瓷表面涂红,从而增加激光切割的连续性和完整性,保证切割的均匀一致。

3.根据权利要求1所述的新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,步骤(2)阻浆印刷厚度大于18μm。

4.根据权利要求1所述的新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,步骤(2)印刷陶瓷釉的釉层厚度大于20μm。

5.根据权利要求1所述的新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,步骤(2)烧结温度为850℃,烧结时间为35min-45min。

6.根据权利要求1所述的新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,步骤(3)清洁时的真空度设置为2*10-2MPa。

7.根据权利要求1所述的新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,步骤(3)电镀铜厚度为10μm-127μm。

8.根据权利要求1所述的新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,步骤(4)显影采用1.1%的无水碳酸钠常温进行,蚀刻采用酸性氯化铜药水,波美度控制在2.5左右,退膜采用3-5%的氢氧化钠45℃进行处理。

9.根据权利要求1所述的新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,步骤(4)贴膜温度为110℃,曝光机里曝光波长365nm,曝光时间15s。

10.根据权利要求1所述的新型精密混合集成电路的加工方法,其特征在于,步骤(6)曝光机里曝光波长410nm,曝光时间25s。

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