[发明专利]一种密封面结构及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种密封结构，其特征在于，包括柔性密封组件和密封面结构；所述密封面结构包括设在基底上用于密封的第一表面，所述第一表面设有若干纳米凹陷；若干纳米凹陷的当量直径均在1-50nm之间；若干纳米凹陷布满整个第一表面，且相邻两个纳米凹陷之间留有1-20nm的间距；所述纳米凹陷为分布在所述第一表面上的盲孔；所述基底材质为不锈钢；

所述柔性密封组件内嵌至若干纳米凹陷中，所述柔性密封组件为密封圈或密封胶；

所述密封面结构的制备方法包括：

将所述基底的第一表面浸渍在电解液中，以所述基底为工作电极，在工作电极和对电极之间通电，对所述基底进行处理；

电解液为草酸和硼酸以质量比20：1-10：1混合的混合液。

2.根据权利要求1所述的密封结构，其特征在于，所述对电极为石墨电极或铂电极；所述基底在置于电解液中之前需进行超声洗涤、烘干预处理。

3.根据权利要求1所述的密封结构，其特征在于，对所述基底进行处理的工艺条件为：电压为10-50V，温度为常温，处理时间为10-240min。

4.一种电解水制氢设备，其特征在于，包括如权利要求1至3任意一项所述的密封结构。