[发明专利]涡轮分子帮浦及其一体成型式转子元件

说明书

本发明涉及一种一体成型式转子元件，该一体成型式转子元件包含转子座以及多个转子叶片。转子座的顶部上未具有凹陷，多个转子叶片连接于转子座且呈间隔排列。本发明所提供的一体成型式转子元件，因转子座的顶部上并无任何外露的凹陷形成，于是可防止半导体制程中的制程物堆积，避免造成真空腔体内的污染及涡轮分子帮浦产生问题。

技术领域

本发明涉及一种真空帮浦及其转子元件，更特别涉及一种可防止制程物堆积的涡轮分子帮浦及其一体成型式转子元件。

背景技术

目前主要的半导体制程例如离子布植、炉管、薄膜溅镀、电浆蚀刻、化学机械研磨等，都需要在高真空中的真空腔体内进行。因此，真空腔体的真空环境是影响制程良率的关键因素之一，而洁净稳定的真空环境有助于提高制程良率。涡轮分子帮浦作为真空系统的心脏，是利用转子相对于定子进行高速旋转，将气体排出真空腔体而产生高真空环境。

现有涡轮分子帮浦的转子结构可分为组装式及一体成型式两种，其中一体成型式的转子在转子顶部都会设有凹槽，以便于加工，且凹槽也可作为锁接转轴的锁接室及配置用于动平衡校正的修正部件。

然而，一些半导体制程中会生成微粒状的制程反应物，当涡轮分子泵抽取真空腔室内的气体时，一并将微粒吸入涡轮分子泵内，这些微粒容易堆积在转子顶部的凹槽内而无法顺利排出。当真空腔体内的压力发生变化时，这些堆积在凹槽内的微粒会随着不稳定的气流飞扬移动而回到真空腔体内造成污染，并且也可能使涡轮分子帮浦产生一些问题或错误而被迫下机保养。

有些一体成型式的转子为了防止凹槽堆积制程物而增加遮板遮蔽凹槽，但此动作会让涡轮分子帮浦的动平衡产生不可控的变化，因此装设遮板时都需要调校动平衡，十分不便，并且制程物还是会因抽气时凹槽内外的压差而从遮板与转子间的隙缝钻入凹槽内。

目前市面无凹槽的转子都是以组装的方式达成，组装过程和工序极为繁琐，也常因过程失败造成损失，而且这些无凹槽的转子表面上也都有螺栓孔，这些螺栓孔同样也会也有微粒堆积的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种可防止制程物堆积的涡轮分子帮浦及其一体成型式转子元件，避免造成真空腔体内的污染及涡轮分子帮浦产生问题。

本发明的一方面，提供一种涡轮分子帮浦的一体成型式转子元件，包含：

转子座，转子座的顶部上未具有凹陷；以及

多个转子叶片，连接于转子座且呈间隔排列。

在其中一个实施例中，转子座包含第一座体及第二座体，第一座体在第二座体上方，第一座体的下部形成上凹部，用以和转轴连接。

在其中一个实施例中，第一座体的上凹部内形成有多个螺栓孔，用以让固定转轴的螺栓能够锁入而将转轴锁固在转子座上。

在其中一个实施例中，第一座体的上凹部中央形成凸块，转轴的顶部具有凹槽，凹槽的形状与凸块的形状相互匹配。

在其中一个实施例中，转子座的顶端为圆型平台，圆形平台的表面未具有凹陷。

在其中一个实施例中，转子座的顶端的中心处为最高，并朝外侧逐渐降低。

本发明的另一方面，还提供一种涡轮分子帮浦，包含：

壳体，具有容置空间及进气端；

转子元件，设置于容置空间，转子元件为一体成型式转子元件，包含转子座及多个转子叶片，转子座的顶部邻近于进气端且未具有凹陷，多个转子叶片连接于转子座且呈间隔排列；

转轴，连接于转子元件；

多个定子叶片，分别位于多个转子叶片之间；以及